加工装置

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3次元ボールミル装置 3DB-210（分離型　中型）3D Ball Mill system 3DB-210 (Separated medium type)

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原材料/物質を3次元(三次元/3D)の動きでマイクロ・ナノレベルの粒子に粉砕・混合・分散させるデスクトップ型ボールミル装置。新材料(素材)の開発に最適。半導体、化学、医療等。研究開発(R&D)、少量産向け。詳しくはこちらから型式 3DB-210 特徴分離型　中型主軸主軸/3次元軸の2軸任意回転設定機能一括運転機構寸法 680(W)×420(D)×38...

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3次元ボールミル装置 3DB-80（分離型　小型）3D Ball Mill system 3DB-80 (Separated small type)

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原材料/物質を3次元(三次元/3D)の動きでマイクロ・ナノレベルの粒子に粉砕・混合・分散させるデスクトップ型ボールミル装置。新材料(素材)の開発に最適。半導体、化学、医療等。研究開発(R&D)、少量産向け。詳しくはこちらから型式 3DB-80 特徴分離型　小型主軸主軸/3次元軸独自制御式卓上型グローブボックス投入型寸法 585(W)×310(D)×...

Aタイプ真空チャック（センタリングピン無し）A-type Vacuum chuck without centering pins

¥50,000 から

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos用の基板保持用の真空(バキューム)チャック(アダプター)。ウェハ/ウェーハ/ウェハー用。詳しくはこちらから Standard Chucks 　　 Part No. Model Description 31857 A-V36-S45-PP-HD Vacuum chuck without cent...

Cタイプ非真空メカニカルチャック（4センタリングピン）C-type Non-Vacuum, mechanical Chuck with 4 centering pins

¥130,000 から

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos用の基板保持用の非真空メカニカルチャック(アダプター)。ウェハ/ウェーハ/ウェハー用。詳しくはこちらから Standard Chucks 　　 Part No. Model Description 27819 C-CP4-S100-PP-HD Non-Vacuum, mechanical Ch...

¥30,000 から

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos用の基板保持用の真空(バキューム)チャック(アダプター)。小片/チップ用。詳しくはこちらから Standard Chucks 　　 Part No. Model Description 26533 D-V10-S50-PP Fragment adapter, material NPP, vac...

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¥60,000

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos用の基板保持用の真空(バキューム)チャック(アダプター)。小片/チップ用。詳しくはこちらから Part No. Model Description 38071 J-V17-S50-PP Foil Adapter, Perforation d=0,5mm, material NPP, vacuum a...

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片面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。デスク/テーブルトップ式のためコンパクトで設置が簡単。マニュアル式。研究開発(R&D)向け。リーズナブル。OAI製。詳しくはこちらからモデル 200 基板対応サイズ 8インチ角までマスク対応サイズ 9インチ角までアライメントステージコントロール XY 動作 : ±10mmZ 動作 : 1500...

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片面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。光学式。全自動/フルオート式。中量産向け。フラッド露光/エッジビード露光が可能。シャドウマスク技術が必要なエッジビード除去工程向け。OAI製。詳しくはこちらからモデル 2000 基板対応サイズ 12インチ径までマスク対応サイズ - アライメントステージコントロール - アライメント精度 - 露光 ...

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Model 212 マニュアル式片面テーブルトップ大面積マスクアライナー R&D用

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片面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。ベンチトップ式のためコンパクトで設置が簡単。マニュアル式。研究開発(R&D)向け。リーズナブル。最大12インチまでの中型基板用。OAI製。詳しくはこちらからモデル 212 基板対応サイズ 12インチ角までマスク対応サイズ 14インチ角までアライメントステージコントロール XY 動作 : ±10mm...

Model 308/308T UV照度計 Model 308/308T Light Meter

¥320,000 から

ハンディタイプのUV照度計(パワーメーター/Power Meter)。OAI社製で旧型モデル306の後継機種。校正サービスも提供可。専用プローブ(365nm、400nm、420nm、436nm等)も販売。フォトリソグラフィー(露光)装置向け。【Model 308】 Relative Accuracy:275-2000 mw/cm2 range: ±(.042% of reading +.4...

Model 308照度計用専用プローブ 220-540nm Probes for Model 308 UV Light Meter

¥60,000 から

UV照度計(パワーメーター/Power Meter)モデル308用専用プローブ(365nm、400nm、420nm、436nm等)。OAI社製で旧型モデル306の後継機種。校正サービスも提供可。フォトリソグラフィー(露光)装置向け。

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UV LED光源(ライトソース/Light source)。フォトリソグラフィー/露光/Photolithography用途向けにコリメートされた光源。OAI製。半導体、MEMS、研究開発(R&D)、少量産、中量産向け。ビームサイズ 4 ～ 12 インチ sg 波長 365um、405um またはデュアル波長デュアル波長チューニングが可能 +/- 4% より優れたビーム均一性...

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片面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。光学裏面露光式。全自動/フルオート式。半導体、MEMS、研究開発(R&D)向け。中量産向け。オールコンピューター制御、スループットは1時間に180ウェハが可能。OAI製。詳しくはこちらからモデル 6000 基板対応サイズ 50mm～200mmウェハ/角もしくは200mm～300mmウェハ/角 100um～7mm...

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片面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。光学式。全自動/フルオート式。液晶/FPD/LCD/フラットパネルディスプレイ、中量産向け。大型基板(最大20″×20″まで)。オールコンピューター制御。OAI製。詳しくはこちらからモデル 6020 基板対応サイズ 12インチ角 – 20インチ角までマスク対応サイズ 14インチ角 – 24インチ角までアライ...

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¥2,300,000

タッチスクリーン式、USB内蔵のハンディタイプのUV照度計(パワーメーター/Power Meter)。OAI社製で旧型モデル358の後継機種。校正サービスも提供可。専用プローブ(365nm、400nm、420nm、436nm等)も販売。詳しくはこちらから model 対応波長帯域強度レンジ Model659 365nm – 436nm ～7,500mW/cm2 ...

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両面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。光学式。トップ面またはボトム面のアライメントが可能。半自動/セミオート式。研究開発(R&D)向け。少量産向け。OAI製。詳しくはこちらからモデル 800E 基板対応サイズ 8インチ角までマスク対応サイズ 9インチ角までアライメントステージコントロール XY 動作 : ±5mm回転 : ±4° ...

POLOS 300 アドバンスドテーブルトップ POLOS 300 Advanced Table Top

¥3,730,000 から

1台でレジスト塗布(コート)、エッチング、洗浄、乾燥が可能な多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polosの300mm(12インチ基板用)以下の基板対応機。チャック/アダプター使用で小片/チップの処理も可能。NPP(ポリプロピレン)、PTFE(テフロン)から選択可。詳しくはこちらから

¥860,000 から

1台でレジスト塗布(コート)、エッチング、洗浄、乾燥が可能な多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polosの150mm(6インチ基板用)以下の基板対応機。チャック/アダプター使用で小片/チップの処理も可能。NPP(ポリプロピレン)、PTFE(テフロン)から選択可。詳しくはこちらから

¥1,370,000 から

1台でレジスト塗布(コート)、エッチング、洗浄、乾燥が可能な多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polosの200mm(8インチ基板用)以下の基板対応機。チャック/アダプター使用で小片/チップの処理も可能。NPP(ポリプロピレン)、PTFE(テフロン)から選択可。 ※Advanceタイプの価格は都度お問い合わせください。詳しくはこちらから

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¥8,830,000

マスクレス露光(フォトリソグラフィー)を可能にするPOLOSマイクロプリンター。マイクロ構造、複製、スティッチングが可能なソフトフェアを搭載。研究開発(R&D)向け。 POLOS µPrinter Maskless photolithography equipmentSFTprintMachine control software allowing for- microstructu...

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¥8,220,000

光学露光(フォトリソグラフィー)を可能にするPOLOSマイクロライター。コンフォーカル顕微鏡付き。マイクロレーザー制御ソフトウェアを搭載。主に405nmレーザー用。研究開発(R&D)向け。405nm laser, optical system including 3 lenses, confocal microscope with yellow illumination for fo...

Polos スピンプロセッサー用ポンプ Vacuum Pump for Spin Processor

¥170,000

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos用の真空(バキューム)ポンプ。Spin150i、Spin200i、Spin300i。 ※写真はVP-230V 詳しくはこちらから

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POLOS ミニウェットステーション POLOS Mini Wet Station

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Polosスピンコーターと高精度の薬液供給システムを一体化し1つのプログラムで複数のプロセスを設定可能にしたシステム。薬液共有・廃液・排気システムが組み込まれ、センサによるアラーム監視機能も搭載した安全重視モデル。詳しくはこちらから

Polosスピンプロセッサー用センタリングツール Centering Aid for Polos Spin Processor

¥80,000 から

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos Spin150i/200i/300用のセンタリングツール(治具)。150i用はΦ2～φ6インチ、4インチ□角基板まで、200i用φ2～φ8インチ、6インチ□角基板まで、300用はφ6～φ12インチ、8インチ□角まで利用が可能。 ※画像はPolos Spin200i用詳しくはこちらから P/N: 3781...