徴収:
加工装置
ASK
3次元ボールミル装置 3DB-210(分離型 中型)3D Ball Mill system 3DB-210 (Separated medium type)
ASK
これまでの二次元運動の装置では不可能だった、マイクロ・ナノレベルの粉砕・混合・分散を可能にします。
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型式
3DB-210
特徴
分離型 中型
主軸
主軸/3次元軸の2軸任意回転設定機能一括運転機構
寸法
680(W)×420(D)×380(H)mm
重量
30kg
防振ベース(オプション)
680(W)×370(D)×16(H)mm
主...
ASK
3次元ボールミル装置 3DB-80(分離型 小型)3D Ball Mill system 3DB-80 (Separated small type)
ASK
これまでの二次元運動の装置では不可能だった、マイクロ・ナノレベルの粉砕・混合・分散を可能にします。
詳しくはこちらから
型式
3DB-80
特徴
分離型 小型
主軸
主軸/3次元軸 独自制御式卓上型グローブボックス投入型
寸法
585(W)×310(D)×270(H)mm
重量
27kg
防振ベース(オプション)
580(W)×260(D)×16(H)mm
...
ASK
Model 200 マニュアル式片面テーブルトップマスクアライナー R&D用
ASK
Model 200マスクアライナーはテーブルトップ装置で、R&Dや大学向けに適したリーズナブルでシンプルなシステムです。
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モデル
200
基板 対応サイズ
8インチ角 まで
マスク 対応サイズ
9インチ角 まで
アライメント ステージコントロール
XY 動作 : ±10mmZ 動作 : 1500µm回転 : ± 3.5°
アライメント 精度
...
ASK
Model 2000 エッジビード露光システム 量産用向け
ASK
Model 2000はフラッド露光またはエッジビード露光が可能なフルオートマチックタイプの装置です。シャドウマスク技術が貴重なエッジビード除去工程を必要とする製品製造を容易にします。
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モデル
2000
基板 対応サイズ
12インチ径まで
マスク 対応サイズ
-
アライメント ステージコントロール
-
アライメント 精度
-
露光 時間
1s-99...
ASK
Model 212 マニュアル式片面テーブルトップ大面積マスクアライナー R&D用
ASK
最大12”までの中型基板に適したベンチトップタイプのR&D用マスクアライナーです。
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モデル
212
基板 対応サイズ
12インチ角まで
マスク 対応サイズ
14インチ角まで
アライメント ステージコントロール
XY 動作 : ±10mmZ 動作 : 5mm回転 : ± 3.5°
アライメント 精度
-
露光 時間
0.1s~99.0s(0...
Model 308/308T UV照度計 Model 308/308T Light Meter
定価
¥320,000 から
販売価格
¥320,000 から
定価
単価
/対して
【Model 308】
Relative Accuracy:275-2000 mw/cm2 range: ±(.042% of reading +.450 mw/cm2)*0-275 mw/cm2 range ±(.089% of reading +.0545 mw/cm2)*Linearity:0-275 mw/cm2 range ±(.002% of reading +.0297 mw/...
Model 308照度計用専用プローブ 220-540nm Probes for Model 308 UV Light Meter
定価
¥60,000 から
販売価格
¥60,000 から
定価
単価
/対して
ASK
Model 32 UV LED光源
ASK
UV LED 光源は、要求の厳しいリソグラフィー用途向けにコリメートされており、均一です。
ビーム サイズ 4 ~ 12 インチ sg
波長 365um、405um またはデュアル波長
デュアル波長チューニングが可能
+/- 4% より優れたビーム均一性
最大ビーム強度 ~25mW/cm2
使いやすいタッチスクリーンインターフェース
コリメーション角度 <= 2 度
ドーズ管理と時限...
ASK
Model 6000 全自動量産マスクアライナー 量産用
ASK
Model 6000はフルオートマチック、オールコンピューター制御、光学裏面密着露光の機能を兼ね備えたマスクアライナーシステムです。スループットは1時間に180ウェハが可能。半導体やMEMSの生産ラインに適したモデルです。企業の生産工業に適し、中小企業用として、研究開発用途から中量産使用についてコストパフォーマンス高く導入できます。
詳しくはこちらから
モデル
6000
基板 対応...
ASK
Model 6020 大型基板向け自動マスクアライナー 量産用
ASK
Model 6020は大きめのフォーマットに適したマスクアライメント露光システムです。フラットパネルディスプレイやその他の大型基板(最大20″×20″まで)のプロセス需要に対応します。
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モデル
6020
基板 対応サイズ
12インチ角 – 20インチ角まで
マスク 対応サイズ
14インチ角 – 24インチ角まで
アライメント ステージコントロール
Z 動...
ASK
Model 659 UVエネルギーアナライザー
定価
¥2,300,000
販売価格
¥2,300,000
定価
単価
/対して
タッチスクリーン式、USB内蔵のコンパクトなハンディタイプのUV照度計です。専用プローブ(365nm、400nm、420nm、436nm)と併用することで幅広いステッパー用途の波長の測定が可能になります。
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model
対応波長帯域
強度レンジ
Model659
365nm – 436nm
~7,500mW/cm2
電源
3.7V充電式リチウ...
ASK
Model 800E: セミオート両面マスクアライナー R&D/少量産
ASK
Model 800Eセミオート両面マスクアライナーは、光学両面アライメント機能を兼ね備えたハードパッケージに搭載されたシステムです。装置に任せる事が可能でセミオートで動作します。R&Dで光学式なトップ面またはボトム面のアライメントが可能な他、少量産機としての使用にも適しています。
詳しくはこちらから
モデル
800E
基板 対応サイズ
8インチ角 まで
マスク 対応サイ...
POLOS 300 アドバンスドテーブルトップ POLOS 300 Advanced Table Top
定価
¥3,730,000 から
販売価格
¥3,730,000 から
定価
単価
/対して
1台でレジスト塗布、エッチング、洗浄、乾燥が可能な便利ツール「多目的スピンプロセッサーPolos」の300mm基板用の製品です。
詳しくはこちらから
POLOS Spin150i デスクトップ POLOS Spin150i
定価
¥860,000 から
販売価格
¥860,000 から
定価
単価
/対して
1台でレジスト塗布、エッチング、洗浄、乾燥が可能な便利ツール「多目的スピンプロセッサーPolos」の150mm基板用の製品です。
詳しくはこちらから
POLOS Spin200i デスクトップ POLOS Spin200i
定価
¥1 から
販売価格
¥1 から
定価
単価
/対して
1台でレジスト塗布、エッチング、洗浄、乾燥が可能な便利ツール「多目的スピンプロセッサーPolos」の200mm基板用の製品です。
詳しくはこちらから
ASK
POLOS μプリンター POLOS μPrinter
定価
¥8,830,000
販売価格
¥8,830,000
定価
単価
/対して
POLOS µPrinter Maskless photolithography equipmentSFTprintMachine control software allowing for- microstructures fabrication, replication and stitching- control of the fabrication process and align...
ASK
POLOS μライター POLOS μWriter
定価
¥8,220,000
販売価格
¥8,220,000
定価
単価
/対して
POLOS µWriter direct optical lithography system405nm laser, optical system including 3 lenses, confocal microscope with yellow illumination for focusing and basic aligning and inspection. 120mm/s w...
ASK
POLOS ミニウェットステーション POLOS Mini Wet Station
ASK
スピンコーターと高精度の薬液供給システムを一体化し、一つのプログラムで複数のプロセスを設定可能なシステムです。キャビネット内には、薬液共有システム、廃液システム、排気システムが組み込まれ、センサによるアラーム監視機能も搭載され、安全性にも配慮されています。スピンコーターは他モデル同様耐薬品性に優れた素材を使用(PP、PTFE等)。
詳しくはこちらから
ASK
UVナノインプリント装置 TEX-01 UV Nanoimprint system TEX-01
定価
¥6,000,000
販売価格
¥6,000,000
定価
単価
/対して
ポリマーを塗布した基板とソフトモールドを密着させて、UV露光を行うためのUVナノインプリント装置
真空・加圧が必要ないシンプルな構成
解像度:100nmレベルでの微細構造パターン製作
高い生産性(スループットは1~2分)
従来のナノインプリント装置に比べ、高い残膜制御性(15nm以下)
優れた基板への追随性により、高い面内均一性を実現
詳しくはこちらから
ASK
UVナノインプリント装置 TEX-02 UV Nanoimprint system TEX-02
定価
¥40,000,000
販売価格
¥40,000,000
定価
単価
/対して
ポリマーを塗布した基板とソフトモールドを密着させて、UV露光を行うためのUVナノインプリント装置
真空・加圧が必要ないシンプルな構成
解像度:100nmレベルでの微細構造パターン製作
高い生産性(スループットは1~2分)
従来のナノインプリント装置に比べ、高い残膜制御性(15nm以下)
優れた基板への追随性により、高い面内均一性を実現
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ASK
UVライトソース Series30 スタンドアローンタイプ
ASK
シリーズ30は様々なアプリケーションを意図した高効率な光源です。このUV光源は様々なランプが搭載されていることにより、多様で適切なビームサイズを選択することができます。
詳しくはこちらから
モデル
タイプ
ビームサイズ
波長帯域
出力レンジ
シャッタータイム
Model 30
UVライトソース
2" - 12"
220-450nm
200-5kW
0.1-999秒
スタンダード...
ASK
ドライアイスブラスト剥離洗浄機「スーパーブラスト」DSC-I Dry ice(CO2) cleaning system "SUPERBLAST" DSC-I
定価
¥5,500,000
販売価格
¥5,500,000
定価
単価
/対して
“広範囲対応、粒径調整可能なハイパワータイプ” 半導体製造装置用消耗部品などに最適。
詳しくはこちらから
仕様
本体寸法(mm)
500(W)×650(D)×885(H)
本体重量
130kg
ガン寸法 重量
36(W)×450(D)×160(H) 960g
ノズル口径 長さ
内径:Φ16mm 外径:Φ32mm 長さ:200mm
電源
AC100V 50/60Hz
...
ASK
ドライアイスブラスト剥離洗浄機「スーパーブラスト」DSC-V「Reborn」Dry ice(CO2) cleaning system "SUPERBLAST" DSC-V「Reborn」
定価
¥3,000,000
販売価格
¥3,000,000
定価
単価
/対して
“予算やニーズにあわせて部品構成を選択可能” 幅広い分野でお使いいただけます。
詳しくはこちらから
仕様
本体寸法(mm)
450(W)×450(D)×780(H)
本体重量
40kg~80kg (軽量化はオプション)
ガン寸法 重量
24(W)×140(D)×155(H) 500g
ノズル口径 長さ
内径:Φ6mm 外径:Φ12mm 長さ:76mm
電源
AC1...
ASK
ドライアイスブラスト剥離洗浄機「スーパーブラスト」PT-MINI Dry ice(CO2) cleaning system "SUPERBLAST" PT-MINI
定価
¥2,500,000
販売価格
¥2,500,000
定価
単価
/対して
強力な洗浄力を武器にした直圧式洗浄機。工場内設備の定期洗浄などに最適。複数形状のノズルの活用により洗浄力倍増も可能
詳しくはこちらから
仕様
本体寸法(mm)・重量
410(W)×470(D)×480(H) ・ 26kg
ガン寸法
65(W)×315(D)×185(H) 1kg
ノズル口径・長さ
内径:Φ7mm・128mm
電源
AC110/230V 50/60Hz-500...
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