加工装置

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3次元ボールミル装置 3DB-210（分離型　中型）3D Ball Mill system 3DB-210 (Separated medium type)

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原材料/物質を3次元(三次元/3D)の動きでマイクロ・ナノレベルの粒子に粉砕・混合・分散させるデスクトップ型ボールミル装置。新材料(素材)の開発に最適。半導体、化学、医療等。研究開発(R&D)、少量産向け。詳しくはこちらから型式 3DB-210 特徴分離型　中型主軸主軸/3次元軸の2軸任意回転設定機能一括運転機構寸法 680(W)×420(D)×38...

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3次元ボールミル装置 3DB-80（分離型　小型）3D Ball Mill system 3DB-80 (Separated small type)

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原材料/物質を3次元(三次元/3D)の動きでマイクロ・ナノレベルの粒子に粉砕・混合・分散させるデスクトップ型ボールミル装置。新材料(素材)の開発に最適。半導体、化学、医療等。研究開発(R&D)、少量産向け。詳しくはこちらから型式 3DB-80 特徴分離型　小型主軸主軸/3次元軸独自制御式卓上型グローブボックス投入型寸法 585(W)×310(D)×...

Aタイプ真空チャック（センタリングピン無し）A-type Vacuum chuck without centering pins

¥60,000 から

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos用の基板保持用の真空(バキューム)チャック(アダプター)。ウェハ/ウェーハ/ウェハー用。詳しくはこちらから Standard Chucks 　　 Part No. Model Description 31857 A-V36-S45-PP-HD Vacuum chuck without cent...

Cタイプ非真空メカニカルチャック（4センタリングピン）C-type Non-Vacuum, mechanical Chuck with 4 centering pins

¥190,000

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos用の基板保持用の非真空メカニカルチャック(アダプター)。ウェハ/ウェーハ/ウェハー用。詳しくはこちらから

¥40,000 から

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos用の基板保持用の真空(バキューム)チャック(アダプター)。小片/チップ用。詳しくはこちらから Standard Chucks 　　 Part No. Model Description 26533 D-V10-S50-PP Fragment adapter, material NPP, vac...

¥80,000 から

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos用の基板保持用の真空(バキューム)チャック(アダプター)。小片/チップ用。詳しくはこちらから Part No. Model Description 38071 J-V17-S50-PP Foil Adapter, Perforation d=0,5mm, material NPP, vacuum a...

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片面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。デスク/テーブルトップ式のためコンパクトで設置が簡単。マニュアル式。研究開発(R&D)向け。リーズナブル。OAI製。詳しくはこちらからモデル 200 基板対応サイズ 8インチ角までマスク対応サイズ 9インチ角までアライメントステージコントロール XY 動作 : ±10mmZ 動作 : 1500...

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片面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。光学式。全自動/フルオート式。中量産向け。フラッド露光/エッジビード露光が可能。シャドウマスク技術が必要なエッジビード除去工程向け。OAI製。詳しくはこちらからモデル 2000 基板対応サイズ 12インチ径までマスク対応サイズ - アライメントステージコントロール - アライメント精度 - 露光 ...

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Model 212 マニュアル式片面テーブルトップ大面積マスクアライナー R&D用

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片面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。ベンチトップ式のためコンパクトで設置が簡単。マニュアル式。研究開発(R&D)向け。リーズナブル。最大12インチまでの中型基板用。OAI製。詳しくはこちらからモデル 212 基板対応サイズ 12インチ角までマスク対応サイズ 14インチ角までアライメントステージコントロール XY 動作 : ±10mm...

Model 308/308T UV照度計 Model 308/308T Light Meter

¥320,000 から

ハンディタイプのUV照度計(パワーメーター/Power Meter)。OAI社製で旧型モデル306の後継機種。校正サービスも提供可。専用プローブ(365nm、400nm、420nm、436nm等)も販売。フォトリソグラフィー(露光)装置向け。【Model 308】 Relative Accuracy:275-2000 mw/cm2 range: ±(.042% of reading +.4...

Model 308照度計用専用プローブ 220-540nm Probes for Model 308 UV Light Meter

¥220,000 から

UV照度計(パワーメーター/Power Meter)モデル308用専用プローブ(365nm、400nm、420nm、436nm等)。OAI社製で旧型モデル306の後継機種。校正サービスも提供可。フォトリソグラフィー(露光)装置向け。 ※w/Handle、および、高温仕様(High Temp)用のプローブは別価格となります。

¥200,000 から

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UV LED光源(ライトソース/Light source)。フォトリソグラフィー/露光/Photolithography用途向けにコリメートされた光源。OAI製。半導体、MEMS、研究開発(R&D)、少量産、中量産向け。ビームサイズ 4 ～ 12 インチ sg 波長 365um、405um またはデュアル波長デュアル波長チューニングが可能 +/- 4% より優れたビーム均一性...

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片面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。光学裏面露光式。全自動/フルオート式。半導体、MEMS、研究開発(R&D)向け。中量産向け。オールコンピューター制御、スループットは1時間に180ウェハが可能。OAI製。詳しくはこちらからモデル 6000 基板対応サイズ 50mm～200mmウェハ/角もしくは200mm～300mmウェハ/角 100um～7mm...

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片面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。光学式。全自動/フルオート式。液晶/FPD/LCD/フラットパネルディスプレイ、中量産向け。大型基板(最大20″×20″まで)。オールコンピューター制御。OAI製。詳しくはこちらからモデル 6020 基板対応サイズ 12インチ角 – 20インチ角までマスク対応サイズ 14インチ角 – 24インチ角までアライ...

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¥2,500,000

タッチスクリーン式、USB内蔵のハンディタイプのUV照度計(パワーメーター/Power Meter)。OAI社製で旧型モデル358の後継機種。校正サービスも提供可。専用プローブ(365nm、400nm、420nm、436nm等)も販売。詳しくはこちらから model 対応波長帯域強度レンジ Model659 365nm – 436nm ～7,500mW/cm2 ...

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両面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。光学式。トップ面またはボトム面のアライメントが可能。半自動/セミオート式。研究開発(R&D)向け。少量産向け。OAI製。詳しくはこちらからモデル 800E 基板対応サイズ 8インチ角までマスク対応サイズ 9インチ角までアライメントステージコントロール XY 動作 : ±5mm回転 : ±4° ...

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POLOS 450 NPPアドバンスドPPスピンプロセッサー POLOS450 NPP Advanced PP Spin Processor【予約品】

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POLOS 450 アドバンスドシングルサブストレートスピンプロセッサ、デスクトップバージョン、NPP ハウジング、スピンカップ、手動ケミカルディスペンス、ヘビーデューティモーター付き。空気力学的に効率的なチャンバーが均一性を高め、天然ポリプロピレンまたはステンレススチールのプロセスチャンバーが汚染のない、簡単に清掃できるプロセス領域を保証します。すべてのユニットに、プロ...

Polos HP200 プレシジョンホットプレート POLOS HP200 Precision Hotplate

¥860,000 から

プリベーク・ポストベークに適したデスクトップサイズのホットプレート。用途に合わせたカスタマイズが可能。精密温度制御、アラートサウンド機能付き。研究開発(R&D)向け。詳しくはこちらから POLOS Hotplate 200 Standard• Voltage: 230 VAC Temperature range: 50 - 230°C - Programmable storage...

¥1,020,000 から

1台でレジスト塗布(コート)、エッチング、洗浄、乾燥が可能な多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polosの150mm(6インチ基板用)以下の基板対応機。チャック/アダプター使用で小片/チップの処理も可能。NPP(ポリプロピレン)、PTFE(テフロン)から選択可。 ※※受注生産品になります。納期は別途ご確認お願いします。【使用可能基板サイズ】最大 φ...

POLOS Spin200x デスクトップ POLOS Spin200x【予約品】

¥1,540,000 から

1台でレジスト塗布(コート)、エッチング、洗浄、乾燥が可能な多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polosの200mm(8インチ基板用)以下の基板対応機。チャック/アダプター使用で小片/チップの処理も可能。NPP(ポリプロピレン)、PTFE(テフロン)から選択可。 ※※受注生産品になります。納期は別途ご確認お願いします。【使用可能基板サイズ】最大 φ...

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POLOS Spin300x アドバンスドスピンコーターテーブルトップ POLOS Spin300x Advanced Spin Coater Tabletop 【予約品】

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1台でレジスト塗布(コート)、エッチング、洗浄、乾燥が可能な多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polosの300mm(12インチ基板用)以下の基板対応機。チャック/アダプター使用で小片/チップの処理も可能。NPP(ポリプロピレン)、PTFE(テフロン)から選択可。 ※※受注生産品になります。納期は別途ご確認お願いします。【使用可能基板サイズ】最大...

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¥9,460,000

マスクレス露光(フォトリソグラフィー)を可能にするPOLOSマイクロプリンター。マイクロ構造、複製、スティッチングが可能なソフトフェアを搭載。研究開発(R&D)向け。 POLOS µPrinter Maskless photolithography equipmentSFTprintSFTprint with 435nm light source Machine control so...

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¥8,220,000

光学露光(フォトリソグラフィー)を可能にするPOLOSマイクロライター。コンフォーカル顕微鏡付き。マイクロレーザー制御ソフトウェアを搭載。主に405nmレーザー用。研究開発(R&D)向け。405nm laser, optical system including 3 lenses, confocal microscope with yellow illumination for fo...