徴収:
加工装置
ASK
3次元ボールミル装置 3DB-210(分離型 中型)3D Ball Mill system 3DB-210 (Separated medium type)
ASK
原材料/物質を3次元(三次元/3D)の動きでマイクロ・ナノレベルの粒子に粉砕・混合・分散させるデスクトップ型ボールミル装置。新材料(素材)の開発に最適。半導体、化学、医療等。研究開発(R&D)、少量産向け。
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型式
3DB-210
特徴
分離型 中型
主軸
主軸/3次元軸の2軸任意回転設定機能一括運転機構
寸法
680(W)×420(D)×38...
ASK
3次元ボールミル装置 3DB-80(分離型 小型)3D Ball Mill system 3DB-80 (Separated small type)
ASK
原材料/物質を3次元(三次元/3D)の動きでマイクロ・ナノレベルの粒子に粉砕・混合・分散させるデスクトップ型ボールミル装置。新材料(素材)の開発に最適。半導体、化学、医療等。研究開発(R&D)、少量産向け。
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型式
3DB-80
特徴
分離型 小型
主軸
主軸/3次元軸 独自制御式卓上型グローブボックス投入型
寸法
585(W)×310(D)×...
Aタイプ真空チャック(センタリングピン無し)A-type Vacuum chuck without centering pins
定価
¥50,000 から
販売価格
¥50,000 から
定価
単価
/対して
多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos用の基板保持用の真空(バキューム)チャック(アダプター)。ウェハ/ウェーハ/ウェハー用。
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Standard Chucks
Part No.
Model
Description
31857
A-V36-S45-PP-HD
Vacuum chuck without cent...
Cタイプ非真空メカニカルチャック(4センタリングピン)C-type Non-Vacuum, mechanical Chuck with 4 centering pins
定価
¥130,000 から
販売価格
¥130,000 から
定価
単価
/対して
多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos用の基板保持用の非真空メカニカルチャック(アダプター)。ウェハ/ウェーハ/ウェハー用。
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Standard Chucks
Part No.
Model
Description
27819
C-CP4-S100-PP-HD
Non-Vacuum, mechanical Ch...
Dタイプ小片アダプター D-type Fragment Adapter
定価
¥30,000 から
販売価格
¥30,000 から
定価
単価
/対して
多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos用の基板保持用の真空(バキューム)チャック(アダプター)。小片/チップ用。
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Standard Chucks
Part No.
Model
Description
26533
D-V10-S50-PP
Fragment adapter, material NPP, vac...
ASK
Jタイプフォイルアダプター J-type Foil Adapter
定価
¥60,000
販売価格
¥60,000
定価
単価
/対して
多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos用の基板保持用の真空(バキューム)チャック(アダプター)。小片/チップ用。
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Part No.
Model
Description
38071
J-V17-S50-PP
Foil Adapter, Perforation d=0,5mm, material NPP, vacuum a...
ASK
Model 200 マニュアル式片面テーブルトップマスクアライナー R&D用
ASK
片面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。デスク/テーブルトップ式のためコンパクトで設置が簡単。マニュアル式。研究開発(R&D)向け。リーズナブル。OAI製。
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モデル
200
基板 対応サイズ
8インチ角 まで
マスク 対応サイズ
9インチ角 まで
アライメント ステージコントロール
XY 動作 : ±10mmZ 動作 : 1500...
ASK
Model 2000 エッジビード露光システム 量産用向け
ASK
片面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。光学式。全自動/フルオート式。中量産向け。フラッド露光/エッジビード露光が可能。シャドウマスク技術が必要なエッジビード除去工程向け。OAI製。
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モデル
2000
基板 対応サイズ
12インチ径まで
マスク 対応サイズ
-
アライメント ステージコントロール
-
アライメント 精度
-
露光 ...
ASK
Model 212 マニュアル式片面テーブルトップ大面積マスクアライナー R&D用
ASK
片面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。ベンチトップ式のためコンパクトで設置が簡単。マニュアル式。研究開発(R&D)向け。リーズナブル。最大12インチまでの中型基板用。OAI製。
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モデル
212
基板 対応サイズ
12インチ角まで
マスク 対応サイズ
14インチ角まで
アライメント ステージコントロール
XY 動作 : ±10mm...
Model 308/308T UV照度計 Model 308/308T Light Meter
定価
¥320,000 から
販売価格
¥320,000 から
定価
単価
/対して
ハンディタイプのUV照度計(パワーメーター/Power Meter)。OAI社製で旧型モデル306の後継機種。校正サービスも提供可。専用プローブ(365nm、400nm、420nm、436nm等)も販売。フォトリソグラフィー(露光)装置向け。
【Model 308】
Relative Accuracy:275-2000 mw/cm2 range: ±(.042% of reading +.4...
Model 308照度計用専用プローブ 220-540nm Probes for Model 308 UV Light Meter
定価
¥60,000 から
販売価格
¥60,000 から
定価
単価
/対して
UV照度計(パワーメーター/Power Meter)モデル308用専用プローブ(365nm、400nm、420nm、436nm等)。OAI社製で旧型モデル306の後継機種。校正サービスも提供可。フォトリソグラフィー(露光)装置向け。
ASK
Model 32 UV LED光源
ASK
UV LED光源(ライトソース/Light source)。フォトリソグラフィー/露光/Photolithography用途向けにコリメートされた光源。OAI製。半導体、MEMS、研究開発(R&D)、少量産、中量産向け。
ビーム サイズ 4 ~ 12 インチ sg
波長 365um、405um またはデュアル波長
デュアル波長チューニングが可能
+/- 4% より優れたビーム均一性...
ASK
Model 6000 全自動量産マスクアライナー 量産用
ASK
片面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。光学裏面露光式。全自動/フルオート式。半導体、MEMS、研究開発(R&D)向け。中量産向け。オールコンピューター制御、スループットは1時間に180ウェハが可能。OAI製。
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モデル
6000
基板 対応サイズ
50mm~200mmウェハ/角 もしくは200mm~300mmウェハ/角 100um~7mm...
ASK
Model 6020 大型基板向け自動マスクアライナー 量産用
ASK
片面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。光学式。全自動/フルオート式。液晶/FPD/LCD/フラットパネルディスプレイ、中量産向け。大型基板(最大20″×20″まで)。オールコンピューター制御。OAI製。
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モデル
6020
基板 対応サイズ
12インチ角 – 20インチ角まで
マスク 対応サイズ
14インチ角 – 24インチ角まで
アライ...
ASK
Model 659 UVエネルギーアナライザー
定価
¥2,300,000
販売価格
¥2,300,000
定価
単価
/対して
タッチスクリーン式、USB内蔵のハンディタイプのUV照度計(パワーメーター/Power Meter)。OAI社製で旧型モデル358の後継機種。校正サービスも提供可。専用プローブ(365nm、400nm、420nm、436nm等)も販売。
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model
対応波長帯域
強度レンジ
Model659
365nm – 436nm
~7,500mW/cm2
...
ASK
Model 800E: セミオート両面マスクアライナー R&D/少量産
ASK
両面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。光学式。トップ面またはボトム面のアライメントが可能。半自動/セミオート式。研究開発(R&D)向け。少量産向け。OAI製。
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モデル
800E
基板 対応サイズ
8インチ角 まで
マスク 対応サイズ
9インチ角 まで
アライメント ステージコントロール
XY 動作 : ±5mm回転 : ±4°
...
POLOS 300 アドバンスドテーブルトップ POLOS 300 Advanced Table Top
定価
¥3,730,000 から
販売価格
¥3,730,000 から
定価
単価
/対して
1台でレジスト塗布(コート)、エッチング、洗浄、乾燥が可能な多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polosの300mm(12インチ基板用)以下の基板対応機。チャック/アダプター使用で小片/チップの処理も可能。NPP(ポリプロピレン)、PTFE(テフロン)から選択可。
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POLOS Spin150i デスクトップ POLOS Spin150i
定価
¥860,000 から
販売価格
¥860,000 から
定価
単価
/対して
1台でレジスト塗布(コート)、エッチング、洗浄、乾燥が可能な多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polosの150mm(6インチ基板用)以下の基板対応機。チャック/アダプター使用で小片/チップの処理も可能。NPP(ポリプロピレン)、PTFE(テフロン)から選択可。
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POLOS Spin200i デスクトップ POLOS Spin200i
定価
¥1,370,000 から
販売価格
¥1,370,000 から
定価
単価
/対して
1台でレジスト塗布(コート)、エッチング、洗浄、乾燥が可能な多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polosの200mm(8インチ基板用)以下の基板対応機。チャック/アダプター使用で小片/チップの処理も可能。NPP(ポリプロピレン)、PTFE(テフロン)から選択可。
※Advanceタイプの価格は都度お問い合わせください。
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ASK
POLOS μプリンター POLOS μPrinter
定価
¥8,830,000
販売価格
¥8,830,000
定価
単価
/対して
マスクレス露光(フォトリソグラフィー)を可能にするPOLOSマイクロプリンター。マイクロ構造、複製、スティッチングが可能なソフトフェアを搭載。研究開発(R&D)向け。
POLOS µPrinter Maskless photolithography equipmentSFTprintMachine control software allowing for- microstructu...
ASK
POLOS μライター POLOS μWriter
定価
¥8,220,000
販売価格
¥8,220,000
定価
単価
/対して
光学露光(フォトリソグラフィー)を可能にするPOLOSマイクロライター。コンフォーカル顕微鏡付き。マイクロレーザー制御ソフトウェアを搭載。主に405nmレーザー用。研究開発(R&D)向け。405nm laser, optical system including 3 lenses, confocal microscope with yellow illumination for fo...
Polos スピンプロセッサー用ポンプ Vacuum Pump for Spin Processor
定価
¥170,000
販売価格
¥170,000
定価
単価
/対して
多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos用の真空(バキューム)ポンプ。Spin150i、Spin200i、Spin300i。
※写真はVP-230V
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ASK
POLOS ミニウェットステーション POLOS Mini Wet Station
ASK
Polosスピンコーターと高精度の薬液供給システムを一体化し1つのプログラムで複数のプロセスを設定可能にしたシステム。薬液共有・廃液・排気システムが組み込まれ、センサによるアラーム監視機能も搭載した安全重視モデル。
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Polosスピンプロセッサー用センタリングツール Centering Aid for Polos Spin Processor
定価
¥80,000 から
販売価格
¥80,000 から
定価
単価
/対して
多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos Spin150i/200i/300用のセンタリングツール(治具)。150i用はΦ2~φ6インチ、4インチ□角基板まで、200i用φ2~φ8インチ、6インチ□角基板まで、300用はφ6~φ12インチ、8インチ□角まで利用が可能。
※画像はPolos Spin200i用
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P/N: 3781...
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