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Model 200マスクアライナーはテーブルトップ装置で、R&Dや大学向けに適したリーズナブルでシンプルなシステムです。詳しくはこちらからモデル 200 基板対応サイズ 8インチ角までマスク対応サイズ 9インチ角までアライメントステージコントロール XY 動作 : ±10mmZ 動作 : 1500µm回転 : ± 3.5° アライメント精度 ...

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Model 2000はフラッド露光またはエッジビード露光が可能なフルオートマチックタイプの装置です。シャドウマスク技術が貴重なエッジビード除去工程を必要とする製品製造を容易にします。詳しくはこちらからモデル 2000 基板対応サイズ 12インチ径までマスク対応サイズ - アライメントステージコントロール - アライメント精度 - 露光時間 1s-99...

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Model 212 マニュアル式片面テーブルトップ大面積マスクアライナー R&D用

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最大12”までの中型基板に適したベンチトップタイプのR&D用マスクアライナーです。詳しくはこちらからモデル 212 基板対応サイズ 12インチ角までマスク対応サイズ 14インチ角までアライメントステージコントロール XY 動作 : ±10mmZ 動作 : 5mm回転 : ± 3.5° アライメント精度 - 露光時間 0.1s～99.0s(0...

Model 308/308T UV照度計 Model 308/308T Light Meter

¥320,000 から

【Model 308】 Relative Accuracy:275-2000 mw/cm2 range: ±(.042% of reading +.450 mw/cm2)*0-275 mw/cm2 range ±(.089% of reading +.0545 mw/cm2)*Linearity:0-275 mw/cm2 range ±(.002% of reading +.0297 mw/...

Model 308照度計用専用プローブ 220-540nm Probes for Model 308 UV Light Meter

¥60,000 から

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UV LED 光源は、要求の厳しいリソグラフィー用途向けにコリメートされており、均一です。ビームサイズ 4 ～ 12 インチ sg 波長 365um、405um またはデュアル波長デュアル波長チューニングが可能 +/- 4% より優れたビーム均一性最大ビーム強度 ~25mW/cm2 使いやすいタッチスクリーンインターフェースコリメーション角度 <= 2 度ドーズ管理と時限...

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Model 6000はフルオートマチック、オールコンピューター制御、光学裏面密着露光の機能を兼ね備えたマスクアライナーシステムです。スループットは1時間に180ウェハが可能。半導体やMEMSの生産ラインに適したモデルです。企業の生産工業に適し、中小企業用として、研究開発用途から中量産使用についてコストパフォーマンス高く導入できます。詳しくはこちらからモデル 6000 基板対応...

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Model 6020は大きめのフォーマットに適したマスクアライメント露光システムです。フラットパネルディスプレイやその他の大型基板（最大20″×20″まで）のプロセス需要に対応します。詳しくはこちらからモデル 6020 基板対応サイズ 12インチ角 – 20インチ角までマスク対応サイズ 14インチ角 – 24インチ角までアライメントステージコントロール Z 動...

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¥2,300,000

タッチスクリーン式、USB内蔵のコンパクトなハンディタイプのUV照度計です。専用プローブ（365nm、400nm、420nm、436nm）と併用することで幅広いステッパー用途の波長の測定が可能になります。詳しくはこちらから model 対応波長帯域強度レンジ Model659 365nm – 436nm ～7,500mW/cm2 電源 3.7V充電式リチウ...

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Model 800Eセミオート両面マスクアライナーは、光学両面アライメント機能を兼ね備えたハードパッケージに搭載されたシステムです。装置に任せる事が可能でセミオートで動作します。R&Dで光学式なトップ面またはボトム面のアライメントが可能な他、少量産機としての使用にも適しています。詳しくはこちらからモデル 800E 基板対応サイズ 8インチ角までマスク対応サイ...

POLOS 300 アドバンスドテーブルトップ POLOS 300 Advanced Table Top

¥3,730,000 から

1台でレジスト塗布、エッチング、洗浄、乾燥が可能な便利ツール「多目的スピンプロセッサーPolos」の300mm基板用の製品です。詳しくはこちらから

¥860,000 から

1台でレジスト塗布、エッチング、洗浄、乾燥が可能な便利ツール「多目的スピンプロセッサーPolos」の150mm基板用の製品です。詳しくはこちらから

¥1 から

1台でレジスト塗布、エッチング、洗浄、乾燥が可能な便利ツール「多目的スピンプロセッサーPolos」の200mm基板用の製品です。詳しくはこちらから

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POLOS ミニウェットステーション POLOS Mini Wet Station

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スピンコーターと高精度の薬液供給システムを一体化し、一つのプログラムで複数のプロセスを設定可能なシステムです。キャビネット内には、薬液共有システム、廃液システム、排気システムが組み込まれ、センサによるアラーム監視機能も搭載され、安全性にも配慮されています。スピンコーターは他モデル同様耐薬品性に優れた素材を使用（PP、PTFE等）。詳しくはこちらから

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UVナノインプリント装置 TEX-01 UV Nanoimprint system TEX-01

¥6,000,000

ポリマーを塗布した基板とソフトモールドを密着させて、UV露光を行うためのUVナノインプリント装置真空・加圧が必要ないシンプルな構成解像度：100nmレベルでの微細構造パターン製作高い生産性（スループットは1~2分）従来のナノインプリント装置に比べ、高い残膜制御性（15nm以下）優れた基板への追随性により、高い面内均一性を実現詳しくはこちらから

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$UVナノインプリント装置 TEX-02 UV Nanoimprint system TEX-02$

¥40,000,000

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シリーズ30は様々なアプリケーションを意図した高効率な光源です。このUV光源は様々なランプが搭載されていることにより、多様で適切なビームサイズを選択することができます。詳しくはこちらからモデルタイプビームサイズ波長帯域出力レンジシャッタータイム Model 30 UVライトソース 2" - 12" 220-450nm 200-5kW 0.1-999秒スタンダード...

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¥120,000,000

PhableR100はタルボ効果を用いることにより周期構造に対してハーフピッチ150nmの微細で一括露光できる特殊な装置です。電子ビーム描画レベルの解像度で周期性をもったデバイス開発されているお客様にリーズナブルに導入することが可能となりました。 DUV光源選択時にはハーフピッチ75nmの一括露光を実現します。詳しくはこちらからナノパターン露光装置PhableR 100の仕様 ...