徴収:
PHOTOLITHOGRAPHY
ASK
Model 200 マニュアル式片面テーブルトップマスクアライナー R&D用
ASK
Model 200マスクアライナーはテーブルトップ装置で、R&Dや大学向けに適したリーズナブルでシンプルなシステムです。
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モデル
200
基板 対応サイズ
8インチ角 まで
マスク 対応サイズ
9インチ角 まで
アライメント ステージコントロール
XY 動作 : ±10mmZ 動作 : 1500µm回転 : ± 3.5°
アライメント 精度
...
ASK
Model 2000 エッジビード露光システム 量産用向け
ASK
Model 2000はフラッド露光またはエッジビード露光が可能なフルオートマチックタイプの装置です。シャドウマスク技術が貴重なエッジビード除去工程を必要とする製品製造を容易にします。
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モデル
2000
基板 対応サイズ
12インチ径まで
マスク 対応サイズ
-
アライメント ステージコントロール
-
アライメント 精度
-
露光 時間
1s-99...
ASK
Model 212 マニュアル式片面テーブルトップ大面積マスクアライナー R&D用
ASK
最大12”までの中型基板に適したベンチトップタイプのR&D用マスクアライナーです。
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モデル
212
基板 対応サイズ
12インチ角まで
マスク 対応サイズ
14インチ角まで
アライメント ステージコントロール
XY 動作 : ±10mmZ 動作 : 5mm回転 : ± 3.5°
アライメント 精度
-
露光 時間
0.1s~99.0s(0...
Model 308/308T UV照度計 Model 308/308T Light Meter
定価
¥320,000 から
販売価格
¥320,000 から
定価
単価
/対して
【Model 308】
Relative Accuracy:275-2000 mw/cm2 range: ±(.042% of reading +.450 mw/cm2)*0-275 mw/cm2 range ±(.089% of reading +.0545 mw/cm2)*Linearity:0-275 mw/cm2 range ±(.002% of reading +.0297 mw/...
Model 308照度計用専用プローブ 220-540nm Probes for Model 308 UV Light Meter
定価
¥60,000 から
販売価格
¥60,000 から
定価
単価
/対して
ASK
Model 32 UV LED光源
ASK
UV LED 光源は、要求の厳しいリソグラフィー用途向けにコリメートされており、均一です。
ビーム サイズ 4 ~ 12 インチ sg
波長 365um、405um またはデュアル波長
デュアル波長チューニングが可能
+/- 4% より優れたビーム均一性
最大ビーム強度 ~25mW/cm2
使いやすいタッチスクリーンインターフェース
コリメーション角度 <= 2 度
ドーズ管理と時限...
ASK
Model 6000 全自動量産マスクアライナー 量産用
ASK
Model 6000はフルオートマチック、オールコンピューター制御、光学裏面密着露光の機能を兼ね備えたマスクアライナーシステムです。スループットは1時間に180ウェハが可能。半導体やMEMSの生産ラインに適したモデルです。企業の生産工業に適し、中小企業用として、研究開発用途から中量産使用についてコストパフォーマンス高く導入できます。
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モデル
6000
基板 対応...
ASK
Model 6020 大型基板向け自動マスクアライナー 量産用
ASK
Model 6020は大きめのフォーマットに適したマスクアライメント露光システムです。フラットパネルディスプレイやその他の大型基板(最大20″×20″まで)のプロセス需要に対応します。
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モデル
6020
基板 対応サイズ
12インチ角 – 20インチ角まで
マスク 対応サイズ
14インチ角 – 24インチ角まで
アライメント ステージコントロール
Z 動...
ASK
Model 659 UVエネルギーアナライザー
定価
¥2,300,000
販売価格
¥2,300,000
定価
単価
/対して
タッチスクリーン式、USB内蔵のコンパクトなハンディタイプのUV照度計です。専用プローブ(365nm、400nm、420nm、436nm)と併用することで幅広いステッパー用途の波長の測定が可能になります。
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model
対応波長帯域
強度レンジ
Model659
365nm – 436nm
~7,500mW/cm2
電源
3.7V充電式リチウ...
ASK
Model 800E: セミオート両面マスクアライナー R&D/少量産
ASK
Model 800Eセミオート両面マスクアライナーは、光学両面アライメント機能を兼ね備えたハードパッケージに搭載されたシステムです。装置に任せる事が可能でセミオートで動作します。R&Dで光学式なトップ面またはボトム面のアライメントが可能な他、少量産機としての使用にも適しています。
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モデル
800E
基板 対応サイズ
8インチ角 まで
マスク 対応サイ...
POLOS 300 アドバンスドテーブルトップ POLOS 300 Advanced Table Top
定価
¥3,730,000 から
販売価格
¥3,730,000 から
定価
単価
/対して
1台でレジスト塗布、エッチング、洗浄、乾燥が可能な便利ツール「多目的スピンプロセッサーPolos」の300mm基板用の製品です。
詳しくはこちらから
POLOS Spin150i デスクトップ POLOS Spin150i
定価
¥860,000 から
販売価格
¥860,000 から
定価
単価
/対して
1台でレジスト塗布、エッチング、洗浄、乾燥が可能な便利ツール「多目的スピンプロセッサーPolos」の150mm基板用の製品です。
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POLOS Spin200i デスクトップ POLOS Spin200i
定価
¥1 から
販売価格
¥1 から
定価
単価
/対して
1台でレジスト塗布、エッチング、洗浄、乾燥が可能な便利ツール「多目的スピンプロセッサーPolos」の200mm基板用の製品です。
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ASK
POLOS ミニウェットステーション POLOS Mini Wet Station
ASK
スピンコーターと高精度の薬液供給システムを一体化し、一つのプログラムで複数のプロセスを設定可能なシステムです。キャビネット内には、薬液共有システム、廃液システム、排気システムが組み込まれ、センサによるアラーム監視機能も搭載され、安全性にも配慮されています。スピンコーターは他モデル同様耐薬品性に優れた素材を使用(PP、PTFE等)。
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ASK
UVナノインプリント装置 TEX-01 UV Nanoimprint system TEX-01
定価
¥6,000,000
販売価格
¥6,000,000
定価
単価
/対して
ポリマーを塗布した基板とソフトモールドを密着させて、UV露光を行うためのUVナノインプリント装置
真空・加圧が必要ないシンプルな構成
解像度:100nmレベルでの微細構造パターン製作
高い生産性(スループットは1~2分)
従来のナノインプリント装置に比べ、高い残膜制御性(15nm以下)
優れた基板への追随性により、高い面内均一性を実現
詳しくはこちらから
ASK
UVナノインプリント装置 TEX-02 UV Nanoimprint system TEX-02
定価
¥40,000,000
販売価格
¥40,000,000
定価
単価
/対して
ポリマーを塗布した基板とソフトモールドを密着させて、UV露光を行うためのUVナノインプリント装置
真空・加圧が必要ないシンプルな構成
解像度:100nmレベルでの微細構造パターン製作
高い生産性(スループットは1~2分)
従来のナノインプリント装置に比べ、高い残膜制御性(15nm以下)
優れた基板への追随性により、高い面内均一性を実現
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ASK
UVライトソース Series30 スタンドアローンタイプ
ASK
シリーズ30は様々なアプリケーションを意図した高効率な光源です。このUV光源は様々なランプが搭載されていることにより、多様で適切なビームサイズを選択することができます。
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モデル
タイプ
ビームサイズ
波長帯域
出力レンジ
シャッタータイム
Model 30
UVライトソース
2" - 12"
220-450nm
200-5kW
0.1-999秒
スタンダード...
ASK
ナノパターン露光装置 PhableR 100
定価
¥120,000,000
販売価格
¥120,000,000
定価
単価
/対して
PhableR100はタルボ効果を用いることにより周期構造に対して ハーフピッチ150nmの微細で一括露光できる特殊な装置です。 電子ビーム描画レベルの解像度で周期性をもったデバイス開発されているお客様にリーズナブルに導入することが可能となりました。 DUV光源選択時にはハーフピッチ75nmの一括露光を実現します。
詳しくはこちらから
ナノパターン露光装置PhableR 100の仕様
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