加工装置

テフロン製ポーラスインレーチャックアダプター Porous PTFE inlay chuck adaptor

¥150,000

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos Spin 150x用の基板保持用のポーラスインレーチャック(アダプター)。ウェハ/ウェーハ/ウェハー用。10mm×10mm×100μmt用の真空チャック。6,000rpmも使用可能。詳しくはこちらからチャックタイプ（型番）の見方はこちら

Model 308照度計用専用プローブ 220-540nm Probes for Model 308 UV Light Meter

¥200,000 から

UV照度計(パワーメーター/Power Meter)モデル308用専用プローブ(365nm、400nm、420nm、436nm等)。OAI社製で旧型モデル306の後継機種。校正サービスも提供可。フォトリソグラフィー(露光)装置向け。 ※w/Handle、および、高温仕様(High Temp)用のプローブは別価格となります。

¥1,020,000 から

1台でレジスト塗布(コート)、エッチング、洗浄、乾燥が可能な多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polosの150mm(6インチ基板用)以下の基板対応機。チャック/アダプター使用で小片/チップの処理も可能。NPP(ポリプロピレン)、PTFE(テフロン)から選択可。 ※※受注生産品になります。納期は別途ご確認お願いします。【使用可能基板サイズ】 l 最大...

¥35,700,000 から

ナノ粒子を生成するデスクトップ型装置VSP-G1に追加するプリンターのオプション。G1と併用することで基板上へのナノ粒子の印字が可能。20nm以下の高純度無機微粒子をサイズ・純度・粒子成分を制御しながら作成可能。ドライタイプ。スパーク放電。新材料(素材)の開発に最適。半導体、化学、医療等。研究開発(R&D)。詳しくはこちらから

ASK

¥1,100,000

パワーサプライ(電源)。デスクトップ型めっき(メッキ)システム(装置)用オプション部品(パーツ)。基板裏面への周り込み無く成膜できるのが特徴。省スペースでリーズナブルコスト。詳しくはこちらから品名型番用途 Power Supply PS with thyristor pre-regulation, LAN Comp.-interface and Coarse/Fine-Po...

ASK

¥870,000

ホースポンプ。デスクトップ型めっき(メッキ)システム(装置)用オプション部品(パーツ)。基板裏面への周り込み無く成膜できるのが特徴。省スペースでリーズナブルコスト。詳しくはこちらから品名型番用途 Hose Pump HP application: filling, through-flow and draining of the unit. seals up to 99 °

ASK

¥300,000

温度管理。デスクトップ型めっき(メッキ)システム(装置)用オプション。基板裏面への周り込み無く成膜できるのが特徴。省スペースでリーズナブルコスト。詳しくはこちらから品名型番用途 Temperature Management TM up to 80°C, Magnetic stirrer with heating, Pt1000 sensor, glass coated

ASK

¥210,000

カバー付き電解液タンク。デスクトップ型めっき(メッキ)システム(装置)用オプション部品(パーツ)。基板裏面への周り込み無く成膜できるのが特徴。省スペースでリーズナブルコスト。詳しくはこちらから品名型番用途 Electrolyte tank with cover Tank 3 Glass + Lid PP for quick release couplings and Pt1...

デスクトップめっきシステム Desktop Electroplating System

¥2,890,000 から

デスクトップ型のめっき(メッキ)システム(装置)。基板裏面への周り込み無く成膜できるのが特徴。安定した成膜条件により良好な面内分布・再現性が実現可能。省スペースでリーズナブルコストな卓上型装置。詳しくはこちらから ※写真は製品の外観イメージを掴んでいただくもので、特定サイズの製品写真ではありません。　　　構成品名型番用途 PP/PP 使用可能基板サイズ 4" U...

Polos HP200 プレシジョンホットプレート POLOS HP200 Precision Hotplate

¥860,000 から

プリベーク・ポストベークに適したデスクトップサイズのホットプレート。用途に合わせたカスタマイズが可能。精密温度制御、アラートサウンド機能付き。研究開発(R&D)向け。詳しくはこちらから POLOS Hotplate 200 Standard• Voltage: 230 VAC Temperature range: 50 - 230°C - Programmable storage...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 12インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 12 inch

¥1,310,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。Φ12インチ/300mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 8インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 8 inch

¥970,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ8インチ/200mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 6インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 6 inch

¥880,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ6インチ/150mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 5インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 5 inch

¥760,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ5インチ/125mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 4インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 4 inch

¥690,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ4インチ/100mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 3インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 3 inch

¥680,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ3インチ/75mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"に...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 2インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 2 inch

¥640,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ2インチ/50mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"...

Polosスピンプロセッサー用センタリングツール Centering Aid for Polos Spin Processor

¥110,000

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos Spin150x/200x用のセンタリングツール(治具)。150x用はΦ2～φ6インチ、4インチ□角基板まで、200x用φ2～φ8インチ、6インチ□角基板まで利用が可能。 ※画像は「旧モデルPolos Spin200i用」：参考資料詳しくはこちらから

Polos スピンプロセッサー用ポンプ Vacuum Pump for Spin Processor

¥130,000

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos用の真空(バキューム)ポンプ。Spin150x、Spin200xに対応。 ※写真はDP-40V 詳しくはこちらから＜推奨付属部品＞・ポンプの振動を抑えたい場合はこちら（直接当該サイトからご購入ください。）・ポンプを完全に固定したい場合はこちら（直接当該サイトからご購入ください。）

¥80,000 から

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos用の基板保持用の真空(バキューム)チャック(アダプター)。小片/チップ用。詳しくはこちらからチャックタイプ（型番）の見方はこちら Part No. Model Description 38071 J-V17-S50-PP Foil Adapter, Perforation d=0,5mm, mat...

¥40,000 から

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos用の基板保持用の真空(バキューム)チャック(アダプター)。小片/チップ用。詳しくはこちらからチャックタイプ（型番）の見方はこちら Standard Chucks 　　 Part No. Model Description 26533 D-V10-S50-PP Fragment adapter...

Cタイプ非真空メカニカルチャック（4センタリングピン）C-type Non-Vacuum, mechanical Chuck with 4 centering pins

¥190,000

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos用の基板保持用の非真空メカニカルチャック(アダプター)。ウェハ/ウェーハ/ウェハー用。詳しくはこちらからチャックタイプ（型番）の見方はこちら

Aタイプ真空チャック（センタリングピン無し）A-type Vacuum chuck without centering pins

¥60,000 から

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos用の基板保持用の真空(バキューム)チャック(アダプター)。ウェハ/ウェーハ/ウェハー用。詳しくはこちらからチャックタイプ（型番）の見方はこちら Standard Chucks 　　 Part No. Model Description 31857 A-V36-S45-PP-HD Vacuum...

ASK

¥8,220,000

光学露光(フォトリソグラフィー)を可能にするPOLOSマイクロライター。コンフォーカル顕微鏡付き。マイクロレーザー制御ソフトウェアを搭載。主に405nmレーザー用。研究開発(R&D)向け。405nm laser, optical system including 3 lenses, confocal microscope with yellow illumination for fo...