加工装置

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磁気データ消去装置 ERAZER PRO-L10 Magnetic Data Erasing System ERAZER PRO-L10

¥1,900,000

パソコンやディスク等の磁気データを消去する装置。記録メディア(2.5/3.5インチHDD、CMT、LTO、DAT、DLT、VHS等)内に保管されたデータを瞬時に消去可能。レンタルサービスも実施。詳しくはこちらからタイプ PRO-L10 特徴処理能力最大の据置型製品名称（型番） EPL10-302 消去対象メディア発生磁界 750kA/m 電源定格 A...

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磁気データ消去装置 ERAZER PRO-M02 Magnetic Data Erasing System ERAZER PRO-M02

¥800,000

パソコンやディスク等の磁気データを消去する装置。記録メディア(2.5/3.5インチHDD、CMT、LTO、DAT、DLT、VHS等)内に保管されたデータを瞬時に消去可能。レンタルサービスも実施。詳しくはこちらからタイプ PRO-M02 特徴厚型HDD対応のプロ仕様製品名称（型番） EPM02-302/332 消去対象メディア発生磁界 820kA/m ...

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磁気データ消去装置 ERAZER PRO-P02 Magnetic Data Erasing System ERAZER PRO-P02

¥800,000

パソコンやディスク等の磁気データを消去する装置。記録メディア(2.5/3.5インチHDD、CMT、LTO、DAT、DLT、VHS等)内に保管されたデータを瞬時に消去可能。レンタルサービスも実施。詳しくはこちらからタイプ PRO-P02 特徴発生磁界を追求したパワーモデル製品名称（型番） EPP02-302/332 消去対象メディア発生磁界 1120kA/...

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磁気データ消去装置 ERAZER PRO-S01 Magnetic Data Erasing System ERAZER PRO-S01

¥550,000

パソコンやディスク等の磁気データを消去する装置。記録メディア(2.5/3.5インチHDD、CMT、LTO、DAT、DLT、VHS等)内に保管されたデータを瞬時に消去可能。レンタルサービスも実施。詳しくはこちらからタイプ PRO-S01 特徴消去装置のスタンダード製品名称（型番） EPS01-302/332 消去対象メディア発生磁界 750kA/m 電...

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ドライアイスブラスト剥離洗浄機「スーパーブラスト」DSC-V「Reborn」Dry ice(CO2) cleaning system

¥3,000,000

ドライアイスで汚れを剥離する洗浄機(装置)。粉砕したドライアイスペレットを対象物(母材)に衝突させる方式。半導体製造装置用部品(パーツ)のデポ(付着物)除去に有効。エッチング工程向け。精密洗浄。CO2洗浄。詳しくはこちらから仕様本体寸法（mm） 450(W)×450(D)×780(H)　本体重量 40kg～80kg　（軽量化はオプション）ガン寸法　重量 24(W)...

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ドライアイスブラスト剥離洗浄機「スーパーブラスト」DSC-I Dry ice(CO2) cleaning system

¥5,500,000

ドライアイスで汚れを剥離する洗浄機(装置)。粉砕したドライアイスペレットを対象物(母材)に衝突させる方式。半導体製造装置用部品(パーツ)のデポ(付着物)除去に有効。エッチング工程向け。精密洗浄。CO2洗浄。詳しくはこちらから仕様本体寸法（mm） 500(W)×650(D)×885(H) 本体重量 130kg ガン寸法　重量 36(W)×450(D)×160(H） 96...

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¥120,000,000

デスクトップ式ナノパターン露光(フォトリソグラフィー)装置。タルボ効果を利用し周期構造に対してハーフピッチ150nmの一括露光が可能。電子ビーム描画レベルの解像度で周期性をもったデバイス開発に最適。DUV光源選択時にはハーフピッチ75nmの一括露光も可能。詳しくはこちらからナノパターン露光装置PhableR 100の仕様解像度 150nm ハーフピッチ（リニアグレーティング）＊D...

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¥2,500,000

タッチスクリーン式、USB内蔵のハンディタイプのUV照度計(パワーメーター/Power Meter)。OAI社製で旧型モデル358の後継機種。校正サービスも提供可。専用プローブ(365nm、400nm、420nm、436nm等)も販売。詳しくはこちらから model 対応波長帯域強度レンジ Model659 365nm – 436nm ～7,500mW/cm2 ...

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片面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。光学式。全自動/フルオート式。中量産向け。フラッド露光/エッジビード露光が可能。シャドウマスク技術が必要なエッジビード除去工程向け。OAI製。詳しくはこちらからモデル 2000 基板対応サイズ 12インチ径までマスク対応サイズ - アライメントステージコントロール - アライメント精度 - 露光 ...

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UV光源(ライトソース/Light source)。フォトリソグラフィー/露光/Photolithography用途向けにコリメートされた光源。OAI製。半導体、MEMS、研究開発(R&D)、少量産、中量産向け。多様なビームサイズに対応。詳しくはこちらからモデルタイプビームサイズ波長帯域出力レンジシャッタータイム Model 30 UVライトソース 2" ...

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UV LED光源(ライトソース/Light source)。フォトリソグラフィー/露光/Photolithography用途向けにコリメートされた光源。OAI製。半導体、MEMS、研究開発(R&D)、少量産、中量産向け。ビームサイズ 4 ～ 12 インチ sg 波長 365um、405um またはデュアル波長デュアル波長チューニングが可能 +/- 4% より優れたビーム均一性...

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片面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。光学式。全自動/フルオート式。液晶/FPD/LCD/フラットパネルディスプレイ、中量産向け。大型基板(最大20″×20″まで)。オールコンピューター制御。OAI製。詳しくはこちらからモデル 6020 基板対応サイズ 12インチ角 – 20インチ角までマスク対応サイズ 14インチ角 – 24インチ角までアライ...

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片面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。光学裏面露光式。全自動/フルオート式。半導体、MEMS、研究開発(R&D)向け。中量産向け。オールコンピューター制御、スループットは1時間に180ウェハが可能。OAI製。詳しくはこちらからモデル 6000 基板対応サイズ 50mm～200mmウェハ/角もしくは200mm～300mmウェハ/角 100um～7mm...

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両面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。光学式。トップ面またはボトム面のアライメントが可能。半自動/セミオート式。研究開発(R&D)向け。少量産向け。OAI製。詳しくはこちらからモデル 800E 基板対応サイズ 8インチ角までマスク対応サイズ 9インチ角までアライメントステージコントロール XY 動作 : ±5mm回転 : ±4° ...

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Model 212 マニュアル式片面テーブルトップ大面積マスクアライナー R&D用

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片面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。ベンチトップ式のためコンパクトで設置が簡単。マニュアル式。研究開発(R&D)向け。リーズナブル。最大12インチまでの中型基板用。OAI製。詳しくはこちらからモデル 212 基板対応サイズ 12インチ角までマスク対応サイズ 14インチ角までアライメントステージコントロール XY 動作 : ±10mm...

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片面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。デスク/テーブルトップ式のためコンパクトで設置が簡単。マニュアル式。研究開発(R&D)向け。リーズナブル。OAI製。詳しくはこちらからモデル 200 基板対応サイズ 8インチ角までマスク対応サイズ 9インチ角までアライメントステージコントロール XY 動作 : ±10mmZ 動作 : 1500...

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$UVナノインプリント装置 TEX-02 UV Nanoimprint system TEX-02$

¥40,000,000

UV露光(リソグラフィー)を行うためのナノインプリント装置。樹脂やフィルムのような凹凸、うねりのある基板へのパターン転写に適した装置。半自動(セミオート式)。樹脂(ポリマー)を塗布した基板とソフトモールドを密着させる方式。真空・加圧が必要ないシンプルな構成解像度：100nmレベルでの微細構造パターン製作高い生産性（スループットは1~2分）従来のナノインプリント装置に比べ、高い残膜制...

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UVナノインプリント装置 TEX-01 UV Nanoimprint system TEX-01

¥6,000,000

UV露光(リソグラフィー)を行うためのナノインプリント装置。樹脂やフィルムのような凹凸、うねりのある基板へのパターン転写に適した装置。マニュアル式。樹脂(ポリマー)を塗布した基板とソフトモールドを密着させる方式。真空・加圧が必要ないシンプルな構成解像度：100nmレベルでの微細構造パターン製作高い生産性（スループットは1~2分）従来のナノインプリント装置に比べ、高い残膜制御性（15...