ETCH

¥860,000 から

1台でレジスト塗布(コート)、エッチング、洗浄、乾燥が可能な多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polosの150mm(6インチ基板用)以下の基板対応機。チャック/アダプター使用で小片/チップの処理も可能。NPP(ポリプロピレン)、PTFE(テフロン)から選択可。詳しくはこちらから

¥1,370,000 から

1台でレジスト塗布(コート)、エッチング、洗浄、乾燥が可能な多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polosの200mm(8インチ基板用)以下の基板対応機。チャック/アダプター使用で小片/チップの処理も可能。NPP(ポリプロピレン)、PTFE(テフロン)から選択可。 ※Advanceタイプの価格は都度お問い合わせください。詳しくはこちらから

POLOS 300 アドバンスドテーブルトップ POLOS 300 Advanced Table Top

¥3,730,000 から

1台でレジスト塗布(コート)、エッチング、洗浄、乾燥が可能な多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polosの300mm(12インチ基板用)以下の基板対応機。チャック/アダプター使用で小片/チップの処理も可能。NPP(ポリプロピレン)、PTFE(テフロン)から選択可。詳しくはこちらから

Aタイプ真空チャック（センタリングピン無し）A-type Vacuum chuck without centering pins

¥50,000 から

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos用の基板保持用の真空(バキューム)チャック(アダプター)。ウェハ/ウェーハ/ウェハー用。詳しくはこちらから Standard Chucks 　　 Part No. Model Description 31857 A-V36-S45-PP-HD Vacuum chuck without cent...

Cタイプ非真空メカニカルチャック（4センタリングピン）C-type Non-Vacuum, mechanical Chuck with 4 centering pins

¥130,000 から

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos用の基板保持用の非真空メカニカルチャック(アダプター)。ウェハ/ウェーハ/ウェハー用。詳しくはこちらから Standard Chucks 　　 Part No. Model Description 27819 C-CP4-S100-PP-HD Non-Vacuum, mechanical Ch...

¥30,000 から

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos用の基板保持用の真空(バキューム)チャック(アダプター)。小片/チップ用。詳しくはこちらから Standard Chucks 　　 Part No. Model Description 26533 D-V10-S50-PP Fragment adapter, material NPP, vac...

ASK

¥60,000

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos用の基板保持用の真空(バキューム)チャック(アダプター)。小片/チップ用。詳しくはこちらから Part No. Model Description 38071 J-V17-S50-PP Foil Adapter, Perforation d=0,5mm, material NPP, vacuum a...

Polos スピンプロセッサー用ポンプ Vacuum Pump for Spin Processor

¥170,000

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos用の真空(バキューム)ポンプ。Spin150i、Spin200i、Spin300i。 ※写真はVP-230V 詳しくはこちらから

Polosスピンプロセッサー用センタリングツール Centering Aid for Polos Spin Processor

¥80,000 から

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos Spin150i/200i/300用のセンタリングツール(治具)。150i用はΦ2～φ6インチ、4インチ□角基板まで、200i用φ2～φ8インチ、6インチ□角基板まで、300用はφ6～φ12インチ、8インチ□角まで利用が可能。 ※画像はPolos Spin200i用詳しくはこちらから P/N: 3781...

ASK

POLOS ミニウェットステーション POLOS Mini Wet Station

ASK

Polosスピンコーターと高精度の薬液供給システムを一体化し1つのプログラムで複数のプロセスを設定可能にしたシステム。薬液共有・廃液・排気システムが組み込まれ、センサによるアラーム監視機能も搭載した安全重視モデル。詳しくはこちらから

ASK

ドライアイスブラスト剥離洗浄機「スーパーブラスト」PT-MINI Dry ice(CO2) cleaning system

¥2,500,000

ドライアイスで汚れを剥離する洗浄機(装置)。粉砕したドライアイスペレットを対象物(母材)に衝突させる方式。油汚れの除去や塗装剥がしにも有効。工場内設備の定期洗浄(メンテナンス)などに最適。直圧式洗浄機。CO2洗浄。詳しくはこちらから仕様本体寸法（mm）・重量 410(W)×470(D)×480(H) ・ 26kg ガン寸法 65(W)×315(D)×185(H） 1kg ...

ASK

ドライアイスブラスト剥離洗浄機「スーパーブラスト」DSC-V「Reborn」Dry ice(CO2) cleaning system

¥3,000,000

ドライアイスで汚れを剥離する洗浄機(装置)。粉砕したドライアイスペレットを対象物(母材)に衝突させる方式。半導体製造装置用部品(パーツ)のデポ(付着物)除去に有効。エッチング工程向け。精密洗浄。CO2洗浄。詳しくはこちらから仕様本体寸法（mm） 450(W)×450(D)×780(H)　本体重量 40kg～80kg　（軽量化はオプション）ガン寸法　重量 24(W)...

ASK

ドライアイスブラスト剥離洗浄機「スーパーブラスト」DSC-I Dry ice(CO2) cleaning system

¥5,500,000

ドライアイスで汚れを剥離する洗浄機(装置)。粉砕したドライアイスペレットを対象物(母材)に衝突させる方式。半導体製造装置用部品(パーツ)のデポ(付着物)除去に有効。エッチング工程向け。精密洗浄。CO2洗浄。詳しくはこちらから仕様本体寸法（mm） 500(W)×650(D)×885(H) 本体重量 130kg ガン寸法　重量 36(W)×450(D)×160(H） 96...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 2インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 2 inch

¥640,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ2インチ/50mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 3インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 3 inch

¥680,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ3インチ/75mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"に...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 4インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 4 inch

¥690,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ4インチ/100mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 5インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 5 inch

¥760,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ5インチ/125mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 6インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 6 inch

¥880,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ6インチ/150mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 8インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 8 inch

¥970,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ8インチ/200mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 12インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 12 inch

¥1,310,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。Φ12インチ/300mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12...