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POLOS 450 NPPアドバンスドPPスピンプロセッサー POLOS450 NPP Advanced PP Spin Processor【予約品】

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POLOS 450 アドバンスドシングルサブストレートスピンプロセッサ、デスクトップバージョン、NPP ハウジング、スピンカップ、手動ケミカルディスペンス、ヘビーデューティモーター付き。空気力学的に効率的なチャンバーが均一性を高め、天然ポリプロピレンまたはステンレススチールのプロセスチャンバーが汚染のない、簡単に清掃できるプロセス領域を保証します。すべてのユニットに、プロ...

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POLOS Spin300x アドバンスドスピンコーターテーブルトップ POLOS Spin300x Advanced Spin Coater Tabletop 【予約品】

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1台でレジスト塗布(コート)、エッチング、洗浄、乾燥が可能な多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polosの300mm(12インチ基板用)以下の基板対応機。チャック/アダプター使用で小片/チップの処理も可能。NPP(ポリプロピレン)、PTFE(テフロン)から選択可。 ※※受注生産品になります。納期は別途ご確認お願いします。【使用可能基板サイズ】 l ...

¥1,640,000 から

1台でレジスト塗布(コート)、エッチング、洗浄、乾燥が可能な多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polosの200mm(8インチ基板用)以下の基板対応機。チャック/アダプター使用で小片/チップの処理も可能。NPP(ポリプロピレン)、PTFE(テフロン)から選択可。 ※※受注生産品になります。納期は別途ご確認お願いします。【使用可能基板サイズ】 l 最大...

¥1,080,000 から

1台でレジスト塗布(コート)、エッチング、洗浄、乾燥が可能な多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polosの150mm(6インチ基板用)以下の基板対応機。チャック/アダプター使用で小片/チップの処理も可能。NPP(ポリプロピレン)、PTFE(テフロン)から選択可。 ※※受注生産品になります。納期は別途ご確認お願いします。【使用可能基板サイズ】 l 最大...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 12インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 12 inch

¥1,310,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。Φ12インチ/300mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 8インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 8 inch

¥970,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ8インチ/200mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 6インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 6 inch

¥880,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ6インチ/150mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 5インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 5 inch

¥760,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ5インチ/125mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 4インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 4 inch

¥690,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ4インチ/100mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 3インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 3 inch

¥680,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ3インチ/75mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"に...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 2インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 2 inch

¥640,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ2インチ/50mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"...

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ドライアイスブラスト剥離洗浄機「スーパーブラスト」DSC-V「Reborn」Dry ice(CO2) cleaning system

¥3,000,000

ドライアイスで汚れを剥離する洗浄機(装置)。粉砕したドライアイスペレットを対象物(母材)に衝突させる方式。半導体製造装置用部品(パーツ)のデポ(付着物)除去に有効。エッチング工程向け。精密洗浄。CO2洗浄。詳しくはこちらから仕様本体寸法（mm） 450(W)×450(D)×780(H)　本体重量 40kg～80kg　（軽量化はオプション）ガン寸法　重量 24(W)...

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ドライアイスブラスト剥離洗浄機「スーパーブラスト」DSC-I Dry ice(CO2) cleaning system

¥5,500,000

ドライアイスで汚れを剥離する洗浄機(装置)。粉砕したドライアイスペレットを対象物(母材)に衝突させる方式。半導体製造装置用部品(パーツ)のデポ(付着物)除去に有効。エッチング工程向け。精密洗浄。CO2洗浄。詳しくはこちらから仕様本体寸法（mm） 500(W)×650(D)×885(H) 本体重量 130kg ガン寸法　重量 36(W)×450(D)×160(H） 96...