加工装置

UV露光(リソグラフィー)を行うためのナノインプリント装置。樹脂やフィルムのような凹凸、うねりのある基板へのパターン転写に適した装置。半自動(セミオート式)。樹脂(ポリマー)を塗布した基板とソフトモールドを密着させる方式。 真空・加圧が必要ないシンプルな構成 解像度：100nmレベルでの微細構造パターン製作 高い生産性（スループットは1~2分） 従来のナノインプリント装置に比べ、高い残膜制...

UV露光(リソグラフィー)を行うためのナノインプリント装置。樹脂やフィルムのような凹凸、うねりのある基板へのパターン転写に適した装置。マニュアル式。樹脂(ポリマー)を塗布した基板とソフトモールドを密着させる方式。 真空・加圧が必要ないシンプルな構成 解像度：100nmレベルでの微細構造パターン製作 高い生産性（スループットは1~2分） 従来のナノインプリント装置に比べ、高い残膜制御性（15...