加工装置

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¥9,460,000

マスクレス露光(フォトリソグラフィー)を可能にするPOLOSマイクロプリンター。マイクロ構造、複製、スティッチングが可能なソフトフェアを搭載。研究開発(R&D)向け。 POLOS µPrinter Maskless photolithography equipmentSFTprintSFTprint with 435nm light source Machine control so...

Model 308照度計用専用プローブ 220-540nm Probes for Model 308 UV Light Meter

¥220,000 から

UV照度計(パワーメーター/Power Meter)モデル308用専用プローブ(365nm、400nm、420nm、436nm等)。OAI社製で旧型モデル306の後継機種。校正サービスも提供可。フォトリソグラフィー(露光)装置向け。 ※w/Handle、および、高温仕様(High Temp)用のプローブは別価格となります。

Model 308/308T UV照度計 Model 308/308T Light Meter

¥320,000 から

ハンディタイプのUV照度計(パワーメーター/Power Meter)。OAI社製で旧型モデル306の後継機種。校正サービスも提供可。専用プローブ(365nm、400nm、420nm、436nm等)も販売。フォトリソグラフィー(露光)装置向け。【Model 308】 Relative Accuracy:275-2000 mw/cm2 range: ±(.042% of reading +.4...

¥55,000 から

磁気データ消去装置ERAZER用の専用収納ケース。レンタルサービスも実施。記録メディア(2.5/3.5インチHDD、CMT、LTO、DAT、DLT、VHS等)内に保管されたデータを瞬時に消去可能。製品名称（型番） PRO-S01専用キャリングケース（CPS01-100） PRO-M02専用キャリングケース（CPM02-100） PRO-T01専用キャリングケース（CPT01-100...

¥950,000 から

ナノ粒子を生成するデスクトップ型装置。20nm以下の高純度無機微粒子をサイズ・純度・粒子成分を制御しながら作成可能。ドライタイプ。スパーク放電。新材料(素材)の開発に最適。半導体、化学、医療等。研究開発(R&D)。詳しくはこちらからユニット仕様供給電圧 110－240Vac、50-60Hz 電力 175 V-A サイズケース：長さ52x幅30x高さ20cm、反応...

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3次元ボールミル装置 3DB-210（分離型　中型）3D Ball Mill system 3DB-210 (Separated medium type)

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原材料/物質を3次元(三次元/3D)の動きでマイクロ・ナノレベルの粒子に粉砕・混合・分散させるデスクトップ型ボールミル装置。新材料(素材)の開発に最適。半導体、化学、医療等。研究開発(R&D)、少量産向け。詳しくはこちらから型式 3DB-210 特徴分離型　中型主軸主軸/3次元軸の2軸任意回転設定機能一括運転機構寸法 680(W)×420(D)×38...

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3次元ボールミル装置 3DB-80（分離型　小型）3D Ball Mill system 3DB-80 (Separated small type)

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原材料/物質を3次元(三次元/3D)の動きでマイクロ・ナノレベルの粒子に粉砕・混合・分散させるデスクトップ型ボールミル装置。新材料(素材)の開発に最適。半導体、化学、医療等。研究開発(R&D)、少量産向け。詳しくはこちらから型式 3DB-80 特徴分離型　小型主軸主軸/3次元軸独自制御式卓上型グローブボックス投入型寸法 585(W)×310(D)×...

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磁気データ消去装置 ERAZER PRO-T01 Magnetic Data Erasing System ERAZER PRO-T01

¥450,000

パソコンやディスク等の磁気データを消去する装置。記録メディア(2.5/3.5インチHDD、CMT、LTO、DAT、DLT、VHS等)内に保管されたデータを瞬時に消去可能。レンタルサービスも実施。詳しくはこちらからタイプ PRO-T-01 特徴最軽量のコンパクトモデル製品名称（型番） EPT01-302/332 消去対象メディア発生磁界 820kA/m ...

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磁気データ消去装置 ERAZER PRO-L10 Magnetic Data Erasing System ERAZER PRO-L10

¥1,900,000

パソコンやディスク等の磁気データを消去する装置。記録メディア(2.5/3.5インチHDD、CMT、LTO、DAT、DLT、VHS等)内に保管されたデータを瞬時に消去可能。レンタルサービスも実施。詳しくはこちらからタイプ PRO-L10 特徴処理能力最大の据置型製品名称（型番） EPL10-302 消去対象メディア発生磁界 750kA/m 電源定格 A...

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磁気データ消去装置 ERAZER PRO-M02 Magnetic Data Erasing System ERAZER PRO-M02

¥800,000

パソコンやディスク等の磁気データを消去する装置。記録メディア(2.5/3.5インチHDD、CMT、LTO、DAT、DLT、VHS等)内に保管されたデータを瞬時に消去可能。レンタルサービスも実施。詳しくはこちらからタイプ PRO-M02 特徴厚型HDD対応のプロ仕様製品名称（型番） EPM02-302/332 消去対象メディア発生磁界 820kA/m ...

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磁気データ消去装置 ERAZER PRO-P02 Magnetic Data Erasing System ERAZER PRO-P02

¥800,000

パソコンやディスク等の磁気データを消去する装置。記録メディア(2.5/3.5インチHDD、CMT、LTO、DAT、DLT、VHS等)内に保管されたデータを瞬時に消去可能。レンタルサービスも実施。詳しくはこちらからタイプ PRO-P02 特徴発生磁界を追求したパワーモデル製品名称（型番） EPP02-302/332 消去対象メディア発生磁界 1120kA/...

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磁気データ消去装置 ERAZER PRO-S01 Magnetic Data Erasing System ERAZER PRO-S01

¥550,000

パソコンやディスク等の磁気データを消去する装置。記録メディア(2.5/3.5インチHDD、CMT、LTO、DAT、DLT、VHS等)内に保管されたデータを瞬時に消去可能。レンタルサービスも実施。詳しくはこちらからタイプ PRO-S01 特徴消去装置のスタンダード製品名称（型番） EPS01-302/332 消去対象メディア発生磁界 750kA/m 電...

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ドライアイスブラスト剥離洗浄機「スーパーブラスト」DSC-V「Reborn」Dry ice(CO2) cleaning system

¥3,000,000

ドライアイスで汚れを剥離する洗浄機(装置)。粉砕したドライアイスペレットを対象物(母材)に衝突させる方式。半導体製造装置用部品(パーツ)のデポ(付着物)除去に有効。エッチング工程向け。精密洗浄。CO2洗浄。詳しくはこちらから仕様本体寸法（mm） 450(W)×450(D)×780(H)　本体重量 40kg～80kg　（軽量化はオプション）ガン寸法　重量 24(W)...

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ドライアイスブラスト剥離洗浄機「スーパーブラスト」DSC-I Dry ice(CO2) cleaning system

¥5,500,000

ドライアイスで汚れを剥離する洗浄機(装置)。粉砕したドライアイスペレットを対象物(母材)に衝突させる方式。半導体製造装置用部品(パーツ)のデポ(付着物)除去に有効。エッチング工程向け。精密洗浄。CO2洗浄。詳しくはこちらから仕様本体寸法（mm） 500(W)×650(D)×885(H) 本体重量 130kg ガン寸法　重量 36(W)×450(D)×160(H） 96...

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¥120,000,000

デスクトップ式ナノパターン露光(フォトリソグラフィー)装置。タルボ効果を利用し周期構造に対してハーフピッチ150nmの一括露光が可能。電子ビーム描画レベルの解像度で周期性をもったデバイス開発に最適。DUV光源選択時にはハーフピッチ75nmの一括露光も可能。詳しくはこちらからナノパターン露光装置PhableR 100の仕様解像度 150nm ハーフピッチ（リニアグレーティング）＊D...

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¥2,500,000

タッチスクリーン式、USB内蔵のハンディタイプのUV照度計(パワーメーター/Power Meter)。OAI社製で旧型モデル358の後継機種。校正サービスも提供可。専用プローブ(365nm、400nm、420nm、436nm等)も販売。詳しくはこちらから model 対応波長帯域強度レンジ Model659 365nm – 436nm ～7,500mW/cm2 ...

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片面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。光学式。全自動/フルオート式。中量産向け。フラッド露光/エッジビード露光が可能。シャドウマスク技術が必要なエッジビード除去工程向け。OAI製。詳しくはこちらからモデル 2000 基板対応サイズ 12インチ径までマスク対応サイズ - アライメントステージコントロール - アライメント精度 - 露光 ...

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UV光源(ライトソース/Light source)。フォトリソグラフィー/露光/Photolithography用途向けにコリメートされた光源。OAI製。半導体、MEMS、研究開発(R&D)、少量産、中量産向け。多様なビームサイズに対応。詳しくはこちらからモデルタイプビームサイズ波長帯域出力レンジシャッタータイム Model 30 UVライトソース 2" ...

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UV LED光源(ライトソース/Light source)。フォトリソグラフィー/露光/Photolithography用途向けにコリメートされた光源。OAI製。半導体、MEMS、研究開発(R&D)、少量産、中量産向け。ビームサイズ 4 ～ 12 インチ sg 波長 365um、405um またはデュアル波長デュアル波長チューニングが可能 +/- 4% より優れたビーム均一性...

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片面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。光学式。全自動/フルオート式。液晶/FPD/LCD/フラットパネルディスプレイ、中量産向け。大型基板(最大20″×20″まで)。オールコンピューター制御。OAI製。詳しくはこちらからモデル 6020 基板対応サイズ 12インチ角 – 20インチ角までマスク対応サイズ 14インチ角 – 24インチ角までアライ...

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片面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。光学裏面露光式。全自動/フルオート式。半導体、MEMS、研究開発(R&D)向け。中量産向け。オールコンピューター制御、スループットは1時間に180ウェハが可能。OAI製。詳しくはこちらからモデル 6000 基板対応サイズ 50mm～200mmウェハ/角もしくは200mm～300mmウェハ/角 100um～7mm...

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両面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。光学式。トップ面またはボトム面のアライメントが可能。半自動/セミオート式。研究開発(R&D)向け。少量産向け。OAI製。詳しくはこちらからモデル 800E 基板対応サイズ 8インチ角までマスク対応サイズ 9インチ角までアライメントステージコントロール XY 動作 : ±5mm回転 : ±4° ...

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Model 212 マニュアル式片面テーブルトップ大面積マスクアライナー R&D用

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片面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。ベンチトップ式のためコンパクトで設置が簡単。マニュアル式。研究開発(R&D)向け。リーズナブル。最大12インチまでの中型基板用。OAI製。詳しくはこちらからモデル 212 基板対応サイズ 12インチ角までマスク対応サイズ 14インチ角までアライメントステージコントロール XY 動作 : ±10mm...

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片面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。デスク/テーブルトップ式のためコンパクトで設置が簡単。マニュアル式。研究開発(R&D)向け。リーズナブル。OAI製。詳しくはこちらからモデル 200 基板対応サイズ 8インチ角までマスク対応サイズ 9インチ角までアライメントステージコントロール XY 動作 : ±10mmZ 動作 : 1500...