その他（加工装置）

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ウェハの向きを揃えるアライナー/アライメントツール。ノッチ、オリフラに対応。ウェハが装置に正常に搬送されているか、エッジに欠陥がないか等を確認することが可能。 Automatic notch aligner (WHS-A3) l 接地されたウェハとカセットの経路を備えた帯電防止構造 l 複数のアライメントプログラム: 標準、薄型/複合ウェハ、エッジ検査 l ±1°ノッチアライメント...

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ウェハの向きを揃えるアライナー/アライメントツール。ノッチ、オリフラに対応。ウェハが装置に正常に搬送されているか、エッジに欠陥がないか等を確認することが可能。 Manual notch aligner (WHS-A4) l 接地されたウェハとカセットの経路を備えた帯電防止構造 l 200mmウェハ用の上部と下部のノッチアライメント l ウェハを優しく取り扱うためのバネ式ノッチキャッ...

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ウェハの向きを揃えるアライナー/アライメントツール。ノッチ、オリフラに対応。ウェハが装置に正常に搬送されているか、エッジに欠陥がないか等を確認することが可能。 Automatic wafer flat aligner (WHS-A1) l 接地されたウェハとカセットのパスを備えた帯電防止構造 l クリーニングとメンテナンスを簡素化するクイックディスコネクトローラー l ±1以内の...

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カセットtoカセットでウェハを移送させるウェハトランスファー。速度、精度、安全性を維持しながらウェハの移送が可能。SEMIスタンダードの搬送/出荷カセットと互換性あり。メンテナンスの手間を減らした設計。多様なニーズを満たすために4つの基本モデルを提供しています。レガシースタイルのスライドトランスファーには、手動のエコノミーバージョンのWHS-T3と、より正確な制御のための高度な自動...

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マニュアルウェハフラットアライナー (WHS-A2) Manual wafer flat aligner

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ウェハの向きを揃えるアライナー/アライメントツール。ノッチ、オリフラに対応。ウェハが装置に正常に搬送されているか、エッジに欠陥がないか等を確認することが可能。 WHS-A2 シリーズは、76 mm (3インチ) から 150 mm (6インチ) までのウェハの上部と下部のバルクアライメント用に設計された手動ウェハフラットアライナーです。InP、GaAs、GaN、SiC などの複合ウェハ...

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セーフガードウェハトランスファー Safeguard wafer transfer

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オートマチックウェハトランスファー Automatic wafer transfer

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POLOSホットプレート 350アドバンスド POLOS HOTPLATE 350 Advanced

¥2,060,000

プリベーク・ポストベークに適したデスクトップサイズのホットプレート。用途に合わせたカスタマイズが可能。精密温度制御、アラートサウンド機能付き。研究開発(R&D)向け。詳しくはこちらから POLOS Hotplate 350 Advanced• Voltage: 230 VAC Temperature Range: 50 - 230°C - Programmable storage...

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POLOS 450 NPPアドバンスドPPスピンプロセッサー POLOS450 NPP Advanced PP Spin Processor【予約品】

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POLOS 450 アドバンスドシングルサブストレートスピンプロセッサ、デスクトップバージョン、NPP ハウジング、スピンカップ、手動ケミカルディスペンス、ヘビーデューティモーター付き。空気力学的に効率的なチャンバーが均一性を高め、天然ポリプロピレンまたはステンレススチールのプロセスチャンバーが汚染のない、簡単に清掃できるプロセス領域を保証します。すべてのユニットに、プロ...

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POLOS Spin300x アドバンスドスピンコーターテーブルトップ POLOS Spin300x Advanced Spin Coater Tabletop 【予約品】

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1台でレジスト塗布(コート)、エッチング、洗浄、乾燥が可能な多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polosの300mm(12インチ基板用)以下の基板対応機。チャック/アダプター使用で小片/チップの処理も可能。NPP(ポリプロピレン)、PTFE(テフロン)から選択可。 ※※受注生産品になります。納期は別途ご確認お願いします。【使用可能基板サイズ】最大...

POLOS Spin200x デスクトップ POLOS Spin200x【予約品】

¥1,540,000 から

1台でレジスト塗布(コート)、エッチング、洗浄、乾燥が可能な多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polosの200mm(8インチ基板用)以下の基板対応機。チャック/アダプター使用で小片/チップの処理も可能。NPP(ポリプロピレン)、PTFE(テフロン)から選択可。 ※※受注生産品になります。納期は別途ご確認お願いします。【使用可能基板サイズ】最大 φ...

¥1,020,000 から

1台でレジスト塗布(コート)、エッチング、洗浄、乾燥が可能な多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polosの150mm(6インチ基板用)以下の基板対応機。チャック/アダプター使用で小片/チップの処理も可能。NPP(ポリプロピレン)、PTFE(テフロン)から選択可。 ※※受注生産品になります。納期は別途ご確認お願いします。【使用可能基板サイズ】最大 φ...

¥35,700,000 から

ナノ粒子を生成するデスクトップ型装置VSP-G1に追加するプリンターのオプション。G1と併用することで基板上へのナノ粒子の印字が可能。20nm以下の高純度無機微粒子をサイズ・純度・粒子成分を制御しながら作成可能。ドライタイプ。スパーク放電。新材料(素材)の開発に最適。半導体、化学、医療等。研究開発(R&D)。詳しくはこちらから

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¥870,000

ホースポンプ。デスクトップ型めっき(メッキ)システム(装置)用オプション部品(パーツ)。基板裏面への周り込み無く成膜できるのが特徴。省スペースでリーズナブルコスト。詳しくはこちらから品名型番用途 Hose Pump HP application: filling, through-flow and draining of the unit. seals up to 99 °

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¥300,000

温度管理。デスクトップ型めっき(メッキ)システム(装置)用オプション。基板裏面への周り込み無く成膜できるのが特徴。省スペースでリーズナブルコスト。詳しくはこちらから品名型番用途 Temperature Management TM up to 80°C, Magnetic stirrer with heating, Pt1000 sensor, glass coated

デスクトップめっきシステム Desktop Electroplating System

¥2,890,000 から

デスクトップ型のめっき(メッキ)システム(装置)。基板裏面への周り込み無く成膜できるのが特徴。安定した成膜条件により良好な面内分布・再現性が実現可能。省スペースでリーズナブルコストな卓上型装置。詳しくはこちらから ※写真は製品の外観イメージを掴んでいただくもので、特定サイズの製品写真ではありません。　　　構成品名型番用途 PP/PP 使用可能基板サイズ 4" U...

Polos HP200 プレシジョンホットプレート POLOS HP200 Precision Hotplate

¥860,000 から

プリベーク・ポストベークに適したデスクトップサイズのホットプレート。用途に合わせたカスタマイズが可能。精密温度制御、アラートサウンド機能付き。研究開発(R&D)向け。詳しくはこちらから POLOS Hotplate 200 Standard• Voltage: 230 VAC Temperature range: 50 - 230°C - Programmable storage...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 12インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 12 inch

¥1,310,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。Φ12インチ/300mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 8インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 8 inch

¥970,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ8インチ/200mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 6インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 6 inch

¥880,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ6インチ/150mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 5インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 5 inch

¥760,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ5インチ/125mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 4インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 4 inch

¥690,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ4インチ/100mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 3インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 3 inch

¥680,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ3インチ/75mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"に...