その他（加工装置）

¥960,000 から

1台でレジスト塗布(コート)、エッチング、洗浄、乾燥が可能な多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polosの150mm(6インチ基板用)以下の基板対応機。チャック/アダプター使用で小片/チップの処理も可能。NPP(ポリプロピレン)、PTFE(テフロン)から選択可。 ※※受注生産品になります。納期は別途ご確認お願いします。【使用可能基板サイズ】最大 φ...

POLOS Spin200x デスクトップ POLOS Spin200x【予約品】

¥1,450,000 から

1台でレジスト塗布(コート)、エッチング、洗浄、乾燥が可能な多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polosの200mm(8インチ基板用)以下の基板対応機。チャック/アダプター使用で小片/チップの処理も可能。NPP(ポリプロピレン)、PTFE(テフロン)から選択可。 ※※受注生産品になります。納期は別途ご確認お願いします。【使用可能基板サイズ】最大 φ...

ASK

POLOS Spin300x アドバンスドスピンコーターテーブルトップ POLOS Spin300x Advanced Spin Coater Tabletop 【予約品】

ASK

1台でレジスト塗布(コート)、エッチング、洗浄、乾燥が可能な多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polosの300mm(12インチ基板用)以下の基板対応機。チャック/アダプター使用で小片/チップの処理も可能。NPP(ポリプロピレン)、PTFE(テフロン)から選択可。 ※※受注生産品になります。納期は別途ご確認お願いします。【使用可能基板サイズ】最大...

ASK

POLOS 450 NPPアドバンスドPPスピンプロセッサー POLOS450 NPP Advanced PP Spin Processor【予約品】

ASK

POLOS 450 アドバンスドシングルサブストレートスピンプロセッサ、デスクトップバージョン、NPP ハウジング、スピンカップ、手動ケミカルディスペンス、ヘビーデューティモーター付き。空気力学的に効率的なチャンバーが均一性を高め、天然ポリプロピレンまたはステンレススチールのプロセスチャンバーが汚染のない、簡単に清掃できるプロセス領域を保証します。すべてのユニットに、プロ...

¥950,000 から

ナノ粒子を生成するデスクトップ型装置。20nm以下の高純度無機微粒子をサイズ・純度・粒子成分を制御しながら作成可能。ドライタイプ。スパーク放電。新材料(素材)の開発に最適。半導体、化学、医療等。研究開発(R&D)。詳しくはこちらからユニット仕様供給電圧 110－240Vac、50-60Hz 電力 175 V-A サイズケース：長さ52x幅30x高さ20cm、反応...

¥35,700,000 から

ナノ粒子を生成するデスクトップ型装置VSP-G1に追加するプリンターのオプション。G1と併用することで基板上へのナノ粒子の印字が可能。20nm以下の高純度無機微粒子をサイズ・純度・粒子成分を制御しながら作成可能。ドライタイプ。スパーク放電。新材料(素材)の開発に最適。半導体、化学、医療等。研究開発(R&D)。詳しくはこちらから

Aタイプ真空チャック（センタリングピン無し）A-type Vacuum chuck without centering pins

¥60,000 から

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos用の基板保持用の真空(バキューム)チャック(アダプター)。ウェハ/ウェーハ/ウェハー用。詳しくはこちらから Standard Chucks 　　 Part No. Model Description 31857 A-V36-S45-PP-HD Vacuum chuck without cent...

Cタイプ非真空メカニカルチャック（4センタリングピン）C-type Non-Vacuum, mechanical Chuck with 4 centering pins

¥180,000

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos用の基板保持用の非真空メカニカルチャック(アダプター)。ウェハ/ウェーハ/ウェハー用。詳しくはこちらから

¥30,000 から

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos用の基板保持用の真空(バキューム)チャック(アダプター)。小片/チップ用。詳しくはこちらから Standard Chucks 　　 Part No. Model Description 26533 D-V10-S50-PP Fragment adapter, material NPP, vac...

¥70,000 から

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos用の基板保持用の真空(バキューム)チャック(アダプター)。小片/チップ用。詳しくはこちらから Part No. Model Description 38071 J-V17-S50-PP Foil Adapter, Perforation d=0,5mm, material NPP, vacuum a...

テフロン製ポーラスインレーチャックアダプター Porous PTFE inlay chuck adaptor

¥150,000

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos Spin 150x用の基板保持用のポーラスインレーチャック(アダプター)。ウェハ/ウェーハ/ウェハー用。10mm×10mm×100μmt用の真空チャック。6,000rpmも使用可能。詳しくはこちらから

Polos スピンプロセッサー用ポンプ Vacuum Pump for Spin Processor

¥180,000

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos用の真空(バキューム)ポンプ。Spin150i、Spin200i、Spin300i。 ※写真はVP-230V 詳しくはこちらから

Polosスピンプロセッサー用センタリングツール Centering Aid for Polos Spin Processor

¥100,000

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos Spin150x/200x用のセンタリングツール(治具)。150x用はΦ2～φ6インチ、4インチ□角基板まで、200x用φ2～φ8インチ、6インチ□角基板まで利用が可能。 ※画像は「旧モデルPolos Spin200i用」：参考資料詳しくはこちらから

ASK

¥9,460,000

マスクレス露光(フォトリソグラフィー)を可能にするPOLOSマイクロプリンター。マイクロ構造、複製、スティッチングが可能なソフトフェアを搭載。研究開発(R&D)向け。 POLOS µPrinter Maskless photolithography equipmentSFTprintSFTprint with 435nm light source Machine control so...

ASK

¥8,220,000

光学露光(フォトリソグラフィー)を可能にするPOLOSマイクロライター。コンフォーカル顕微鏡付き。マイクロレーザー制御ソフトウェアを搭載。主に405nmレーザー用。研究開発(R&D)向け。405nm laser, optical system including 3 lenses, confocal microscope with yellow illumination for fo...

ASK

¥2,300,000

タッチスクリーン式、USB内蔵のハンディタイプのUV照度計(パワーメーター/Power Meter)。OAI社製で旧型モデル358の後継機種。校正サービスも提供可。専用プローブ(365nm、400nm、420nm、436nm等)も販売。詳しくはこちらから model 対応波長帯域強度レンジ Model659 365nm – 436nm ～7,500mW/cm2 ...

Model 308/308T UV照度計 Model 308/308T Light Meter

¥320,000 から

ハンディタイプのUV照度計(パワーメーター/Power Meter)。OAI社製で旧型モデル306の後継機種。校正サービスも提供可。専用プローブ(365nm、400nm、420nm、436nm等)も販売。フォトリソグラフィー(露光)装置向け。【Model 308】 Relative Accuracy:275-2000 mw/cm2 range: ±(.042% of reading +.4...

Model 308照度計用専用プローブ 220-540nm Probes for Model 308 UV Light Meter

¥220,000 から

UV照度計(パワーメーター/Power Meter)モデル308用専用プローブ(365nm、400nm、420nm、436nm等)。OAI社製で旧型モデル306の後継機種。校正サービスも提供可。フォトリソグラフィー(露光)装置向け。 ※w/Handle、および、高温仕様(High Temp)用のプローブは別価格となります。

TRIO-PLUS ウェハホルダー 2インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 2 inch

¥640,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ2インチ/50mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 3インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 3 inch

¥680,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ3インチ/75mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"に...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 4インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 4 inch

¥690,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ4インチ/100mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 5インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 5 inch

¥760,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ5インチ/125mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 6インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 6 inch

¥880,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ6インチ/150mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 8インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 8 inch

¥970,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ8インチ/200mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"...