その他（加工装置）

POLOSホットプレート 350アドバンスド POLOS HOTPLATE 350 Advanced

¥2,190,000

プリベーク・ポストベークに適したデスクトップサイズのホットプレート。用途に合わせたカスタマイズが可能。精密温度制御、アラートサウンド機能付き。研究開発(R&D)向け。詳しくはこちらから【電圧：230 VAC】温度範囲：50～230°C - 20プログラム（温度/時間）の保存機能付き - 音響アラーム付きカウントダウンタイマー（1～999秒） - 温度均一性 ±1.0°C - ...

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POLOS 450 NPPアドバンスドPPスピンプロセッサー POLOS450 NPP Advanced PP Spin Processor【予約品】

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POLOS 450 アドバンスドシングルサブストレートスピンプロセッサ、デスクトップバージョン、NPP ハウジング、スピンカップ、手動ケミカルディスペンス、ヘビーデューティモーター付き。空気力学的に効率的なチャンバーが均一性を高め、天然ポリプロピレンまたはステンレススチールのプロセスチャンバーが汚染のない、簡単に清掃できるプロセス領域を保証します。すべてのユニットに、プロ...

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POLOS Spin300x アドバンスドスピンコーターテーブルトップ POLOS Spin300x Advanced Spin Coater Tabletop 【予約品】

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1台でレジスト塗布(コート)、エッチング、洗浄、乾燥が可能な多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polosの300mm(12インチ基板用)以下の基板対応機。チャック/アダプター使用で小片/チップの処理も可能。NPP(ポリプロピレン)、PTFE(テフロン)から選択可。 ※※受注生産品になります。納期は別途ご確認お願いします。【使用可能基板サイズ】 l ...

¥1,640,000 から

1台でレジスト塗布(コート)、エッチング、洗浄、乾燥が可能な多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polosの200mm(8インチ基板用)以下の基板対応機。チャック/アダプター使用で小片/チップの処理も可能。NPP(ポリプロピレン)、PTFE(テフロン)から選択可。 ※※受注生産品になります。納期は別途ご確認お願いします。【使用可能基板サイズ】 l 最大...

¥1,080,000 から

1台でレジスト塗布(コート)、エッチング、洗浄、乾燥が可能な多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polosの150mm(6インチ基板用)以下の基板対応機。チャック/アダプター使用で小片/チップの処理も可能。NPP(ポリプロピレン)、PTFE(テフロン)から選択可。 ※※受注生産品になります。納期は別途ご確認お願いします。【使用可能基板サイズ】 l 最大...

¥35,700,000 から

ナノ粒子を生成するデスクトップ型装置VSP-G1に追加するプリンターのオプション。G1と併用することで基板上へのナノ粒子の印字が可能。20nm以下の高純度無機微粒子をサイズ・純度・粒子成分を制御しながら作成可能。ドライタイプ。スパーク放電。新材料(素材)の開発に最適。半導体、化学、医療等。研究開発(R&D)。詳しくはこちらから

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¥870,000

ホースポンプ。デスクトップ型めっき(メッキ)システム(装置)用オプション部品(パーツ)。基板裏面への周り込み無く成膜できるのが特徴。省スペースでリーズナブルコスト。詳しくはこちらから品名型番用途 Hose Pump HP application: filling, through-flow and draining of the unit. seals up to 99 °

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¥300,000

温度管理。デスクトップ型めっき(メッキ)システム(装置)用オプション。基板裏面への周り込み無く成膜できるのが特徴。省スペースでリーズナブルコスト。詳しくはこちらから品名型番用途 Temperature Management TM up to 80°C, Magnetic stirrer with heating, Pt1000 sensor, glass coated

デスクトップめっきシステム Desktop Electroplating System

¥2,890,000 から

デスクトップ型のめっき(メッキ)システム(装置)。基板裏面への周り込み無く成膜できるのが特徴。安定した成膜条件により良好な面内分布・再現性が実現可能。省スペースでリーズナブルコストな卓上型装置。詳しくはこちらから ※写真は製品の外観イメージを掴んでいただくもので、特定サイズの製品写真ではありません。　　　構成品名型番用途 PP/PP 使用可能基板サイズ 4" U...

Polos HP200 プレシジョンホットプレート POLOS HP200 Precision Hotplate

¥910,000 から

プリベーク・ポストベークに適したデスクトップサイズのホットプレート。用途に合わせたカスタマイズが可能。精密温度制御、アラートサウンド機能付き。研究開発(R&D)向け。詳しくはこちらから POLOS Hotplate 200 Standard• Voltage: 230 VAC Temperature range: 50 - 230°C - Programmable storage...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 12インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 12 inch

¥1,310,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。Φ12インチ/300mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 8インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 8 inch

¥970,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ8インチ/200mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 6インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 6 inch

¥880,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ6インチ/150mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 5インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 5 inch

¥760,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ5インチ/125mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 4インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 4 inch

¥690,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ4インチ/100mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 3インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 3 inch

¥680,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ3インチ/75mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"に...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 2インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 2 inch

¥640,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ2インチ/50mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"...

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光学露光(フォトリソグラフィー)を可能にするPOLOSマイクロライター。コンフォーカル顕微鏡付き。マイクロレーザー制御ソフトウェアを搭載。主に405nmレーザー用。研究開発(R&D)向け。405nm laser, optical system including 3 lenses, confocal microscope with yellow illumination for fo...

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¥9,830,000

マスクレス露光(フォトリソグラフィー)を可能にするPOLOSマイクロプリンター。マイクロ構造、複製、スティッチングが可能なソフトフェアを搭載。研究開発(R&D)向け。 POLOS µPrinter Maskless photolithography equipmentSFTprintSFTprint with 435nm light source Machine control so...

¥55,000 から

磁気データ消去装置ERAZER用の専用収納ケース。レンタルサービスも実施。記録メディア(2.5/3.5インチHDD、CMT、LTO、DAT、DLT、VHS等)内に保管されたデータを瞬時に消去可能。製品名称（型番） PRO-S01専用キャリングケース（CPS01-100） PRO-M02専用キャリングケース（CPM02-100） PRO-T01専用キャリングケース（CPT01-100...

¥950,000 から

ナノ粒子を生成するデスクトップ型装置。20nm以下の高純度無機微粒子をサイズ・純度・粒子成分を制御しながら作成可能。ドライタイプ。スパーク放電。新材料(素材)の開発に最適。半導体、化学、医療等。研究開発(R&D)。詳しくはこちらからユニット仕様供給電圧 110－240Vac、50-60Hz 電力 175 V-A サイズケース：長さ52x幅30x高さ20cm、反応...

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3次元ボールミル装置 3DB-210（分離型　中型）3D Ball Mill system 3DB-210 (Separated medium type)

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原材料/物質を3次元(三次元/3D)の動きでマイクロ・ナノレベルの粒子に粉砕・混合・分散させるデスクトップ型ボールミル装置。新材料(素材)の開発に最適。半導体、化学、医療等。研究開発(R&D)、少量産向け。詳しくはこちらから型式 3DB-210 特徴分離型　中型主軸主軸/3次元軸の2軸任意回転設定機能一括運転機構寸法 680(W)×420(D)×38...

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3次元ボールミル装置 3DB-80（分離型　小型）3D Ball Mill system 3DB-80 (Separated small type)

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原材料/物質を3次元(三次元/3D)の動きでマイクロ・ナノレベルの粒子に粉砕・混合・分散させるデスクトップ型ボールミル装置。新材料(素材)の開発に最適。半導体、化学、医療等。研究開発(R&D)、少量産向け。詳しくはこちらから型式 3DB-80 特徴分離型　小型主軸主軸/3次元軸独自制御式卓上型グローブボックス投入型寸法 585(W)×310(D)×...

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磁気データ消去装置 ERAZER PRO-T01 Magnetic Data Erasing System ERAZER PRO-T01

¥450,000

パソコンやディスク等の磁気データを消去する装置。記録メディア(2.5/3.5インチHDD、CMT、LTO、DAT、DLT、VHS等)内に保管されたデータを瞬時に消去可能。レンタルサービスも実施。詳しくはこちらからタイプ PRO-T-01 特徴最軽量のコンパクトモデル製品名称（型番） EPT01-302/332 消去対象メディア発生磁界 820kA/m ...