その他（加工装置）

TRIO-PLUS ウェハホルダー 12インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 12 inch

¥1,310,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。Φ12インチ/300mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 8インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 8 inch

¥970,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ8インチ/200mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 6インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 6 inch

¥880,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ6インチ/150mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 5インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 5 inch

¥760,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ5インチ/125mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 4インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 4 inch

¥690,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ4インチ/100mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 3インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 3 inch

¥680,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ3インチ/75mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"に...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 2インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 2 inch

¥640,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ2インチ/50mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"...

Polosスピンプロセッサー用センタリングツール Centering Aid for Polos Spin Processor

¥110,000

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos Spin150x/200x用のセンタリングツール(治具)。150x用はΦ2～φ6インチ、4インチ□角基板まで、200x用φ2～φ8インチ、6インチ□角基板まで利用が可能。 ※画像は「旧モデルPolos Spin200i用」：参考資料詳しくはこちらから

Polos スピンプロセッサー用ポンプ Vacuum Pump for Spin Processor

¥130,000

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos用の真空(バキューム)ポンプ。Spin150x、Spin200xに対応。 ※写真はDP-40V 詳しくはこちらから＜推奨付属部品＞・ポンプの振動を抑えたい場合はこちら（直接当該サイトからご購入ください。）・ポンプを完全に固定したい場合はこちら（直接当該サイトからご購入ください。）

¥80,000 から

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos用の基板保持用の真空(バキューム)チャック(アダプター)。小片/チップ用。詳しくはこちらから Part No. Model Description 38071 J-V17-S50-PP Foil Adapter, Perforation d=0,5mm, material NPP, vacuum a...

¥40,000 から

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos用の基板保持用の真空(バキューム)チャック(アダプター)。小片/チップ用。詳しくはこちらから Standard Chucks 　　 Part No. Model Description 26533 D-V10-S50-PP Fragment adapter, material NPP, vac...

Cタイプ非真空メカニカルチャック（4センタリングピン）C-type Non-Vacuum, mechanical Chuck with 4 centering pins

¥190,000

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos用の基板保持用の非真空メカニカルチャック(アダプター)。ウェハ/ウェーハ/ウェハー用。詳しくはこちらから

Aタイプ真空チャック（センタリングピン無し）A-type Vacuum chuck without centering pins

¥60,000 から

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos用の基板保持用の真空(バキューム)チャック(アダプター)。ウェハ/ウェーハ/ウェハー用。詳しくはこちらから Standard Chucks 　　 Part No. Model Description 31857 A-V36-S45-PP-HD Vacuum chuck without cent...

ASK

¥8,220,000

光学露光(フォトリソグラフィー)を可能にするPOLOSマイクロライター。コンフォーカル顕微鏡付き。マイクロレーザー制御ソフトウェアを搭載。主に405nmレーザー用。研究開発(R&D)向け。405nm laser, optical system including 3 lenses, confocal microscope with yellow illumination for fo...

ASK

¥9,460,000

マスクレス露光(フォトリソグラフィー)を可能にするPOLOSマイクロプリンター。マイクロ構造、複製、スティッチングが可能なソフトフェアを搭載。研究開発(R&D)向け。 POLOS µPrinter Maskless photolithography equipmentSFTprintSFTprint with 435nm light source Machine control so...

Model 308照度計用専用プローブ 220-540nm Probes for Model 308 UV Light Meter

¥220,000 から

UV照度計(パワーメーター/Power Meter)モデル308用専用プローブ(365nm、400nm、420nm、436nm等)。OAI社製で旧型モデル306の後継機種。校正サービスも提供可。フォトリソグラフィー(露光)装置向け。 ※w/Handle、および、高温仕様(High Temp)用のプローブは別価格となります。

Model 308/308T UV照度計 Model 308/308T Light Meter

¥320,000 から

ハンディタイプのUV照度計(パワーメーター/Power Meter)。OAI社製で旧型モデル306の後継機種。校正サービスも提供可。専用プローブ(365nm、400nm、420nm、436nm等)も販売。フォトリソグラフィー(露光)装置向け。【Model 308】 Relative Accuracy:275-2000 mw/cm2 range: ±(.042% of reading +.4...

¥55,000 から

磁気データ消去装置ERAZER用の専用収納ケース。レンタルサービスも実施。記録メディア(2.5/3.5インチHDD、CMT、LTO、DAT、DLT、VHS等)内に保管されたデータを瞬時に消去可能。製品名称（型番） PRO-S01専用キャリングケース（CPS01-100） PRO-M02専用キャリングケース（CPM02-100） PRO-T01専用キャリングケース（CPT01-100...

¥950,000 から

ナノ粒子を生成するデスクトップ型装置。20nm以下の高純度無機微粒子をサイズ・純度・粒子成分を制御しながら作成可能。ドライタイプ。スパーク放電。新材料(素材)の開発に最適。半導体、化学、医療等。研究開発(R&D)。詳しくはこちらからユニット仕様供給電圧 110－240Vac、50-60Hz 電力 175 V-A サイズケース：長さ52x幅30x高さ20cm、反応...

ASK

3次元ボールミル装置 3DB-210（分離型　中型）3D Ball Mill system 3DB-210 (Separated medium type)

ASK

原材料/物質を3次元(三次元/3D)の動きでマイクロ・ナノレベルの粒子に粉砕・混合・分散させるデスクトップ型ボールミル装置。新材料(素材)の開発に最適。半導体、化学、医療等。研究開発(R&D)、少量産向け。詳しくはこちらから型式 3DB-210 特徴分離型　中型主軸主軸/3次元軸の2軸任意回転設定機能一括運転機構寸法 680(W)×420(D)×38...

ASK

3次元ボールミル装置 3DB-80（分離型　小型）3D Ball Mill system 3DB-80 (Separated small type)

ASK

原材料/物質を3次元(三次元/3D)の動きでマイクロ・ナノレベルの粒子に粉砕・混合・分散させるデスクトップ型ボールミル装置。新材料(素材)の開発に最適。半導体、化学、医療等。研究開発(R&D)、少量産向け。詳しくはこちらから型式 3DB-80 特徴分離型　小型主軸主軸/3次元軸独自制御式卓上型グローブボックス投入型寸法 585(W)×310(D)×...

ASK

磁気データ消去装置 ERAZER PRO-T01 Magnetic Data Erasing System ERAZER PRO-T01

¥450,000

パソコンやディスク等の磁気データを消去する装置。記録メディア(2.5/3.5インチHDD、CMT、LTO、DAT、DLT、VHS等)内に保管されたデータを瞬時に消去可能。レンタルサービスも実施。詳しくはこちらからタイプ PRO-T-01 特徴最軽量のコンパクトモデル製品名称（型番） EPT01-302/332 消去対象メディア発生磁界 820kA/m ...

ASK

磁気データ消去装置 ERAZER PRO-L10 Magnetic Data Erasing System ERAZER PRO-L10

¥1,900,000

パソコンやディスク等の磁気データを消去する装置。記録メディア(2.5/3.5インチHDD、CMT、LTO、DAT、DLT、VHS等)内に保管されたデータを瞬時に消去可能。レンタルサービスも実施。詳しくはこちらからタイプ PRO-L10 特徴処理能力最大の据置型製品名称（型番） EPL10-302 消去対象メディア発生磁界 750kA/m 電源定格 A...

ASK

磁気データ消去装置 ERAZER PRO-M02 Magnetic Data Erasing System ERAZER PRO-M02

¥800,000

パソコンやディスク等の磁気データを消去する装置。記録メディア(2.5/3.5インチHDD、CMT、LTO、DAT、DLT、VHS等)内に保管されたデータを瞬時に消去可能。レンタルサービスも実施。詳しくはこちらからタイプ PRO-M02 特徴厚型HDD対応のプロ仕様製品名称（型番） EPM02-302/332 消去対象メディア発生磁界 820kA/m ...