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チャッククリーニングウェハ(CCW) 4インチ Chuck Cleaning Wafer 4 inch

¥0 から

真空/バキューム/静電/メカニカル/ピンチャック上のゴミ/塵/パーティクルを除去するためのクリーニングウェハ。ダミーウェハ/ウェハー/ウェーハ/ウエハ/ウエハー/ウエーハのロスの低減、装置ダウンタイムの削減、ヘリウム(He)リーク/露光不良の改善に効果的。4、5、6、8、12インチ用のラインアップ。 RNC-25A-0020F(CCW-7020-001-257-FL), RNC-15B-00...

チャッククリーニングウェハ(CCW) 5インチ Chuck Cleaning Wafer 5 inch

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チャッククリーニングウェハ(CCW) 6025ガラスマスク用 Chuck Cleaning Wafer for Glass Mask 6025

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チャッククリーニングウェハ(CCW) 6インチ Chuck Cleaning Wafer 6 inch

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チャッククリーニングウェハ(CCW) 8インチ Chuck Cleaning Wafer 8 inch

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CVD装置用チャンバーリッドカバーの販売。AMAT(Applied Materials) Centura DXZ用。P/N:0018-38107の互換品。※写真は代表的なものを載せているため、実物と異なる場合があります。

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テフロンリングアッパーチャンバー Ring, Teflon Upper Chamber

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CVD装置用テフロンリングアッパーチャンバーの販売。AMAT(Applied Materials) Centura用。P/N:0020-18536の互換品。※写真は代表的なものを載せているため、実物と異なる場合があります。

テフロン製ポーラスインレーチャックアダプター Porous PTFE inlay chuck adaptor

¥150,000

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos Spin 150x用の基板保持用のポーラスインレーチャック(アダプター)。ウェハ/ウェーハ/ウェハー用。10mm×10mm×100μmt用の真空チャック。6,000rpmも使用可能。詳しくはこちらからチャックタイプ（型番）の見方はこちら

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■品名Description：Te 4N φ101.6×t 5 ■仕様Specification: ・材質Material:Te ・純度Purity:99.99% ・サイズSize:φ101.6xt5 ・その他Other:ボンディング含まず ■納期Delivery:約2ヵ月（応相談）　　

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■品名Description：Te 4N φ152.4×t 5 ■仕様Specification: ・材質Material:Te ・純度Purity:99.99% ・サイズSize:φ152.4xt5 ・その他Other:ボンディング含まず ■納期Delivery:約2ヵ月（応相談）　　

ディフェクトリムーバルフィルム(DRF) Defect Removal Film (DRF)

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チャッククリーニングウェハ(CCW)を再生するためのお掃除シート。4、5、6、8、12インチCCW用に3種類のラインアップ(7、9、13インチ□)。フォトリソ/露光用CCW専用。 RNC-DRF-1255(DRF-1255), RNC-DRF-1038(DRF-1038), RNC-DRF-1593(DRF-1593) 詳しくはこちらから

デスクトップめっきシステム Desktop Electroplating System

¥2,890,000 から

デスクトップ型のめっき(メッキ)システム(装置)。基板裏面への周り込み無く成膜できるのが特徴。安定した成膜条件により良好な面内分布・再現性が実現可能。省スペースでリーズナブルコストな卓上型装置。詳しくはこちらから ※写真は製品の外観イメージを掴んでいただくもので、特定サイズの製品写真ではありません。　　　構成品名型番用途 PP/PP 使用可能基板サイズ 4" U...

¥950,000 から

ナノ粒子を生成するデスクトップ型装置。20nm以下の高純度無機微粒子をサイズ・純度・粒子成分を制御しながら作成可能。ドライタイプ。スパーク放電。新材料(素材)の開発に最適。半導体、化学、医療等。研究開発(R&D)。詳しくはこちらからユニット仕様供給電圧 110－240Vac、50-60Hz 電力 175 V-A サイズケース：長さ52x幅30x高さ20cm、反応...

¥35,700,000 から

ナノ粒子を生成するデスクトップ型装置VSP-G1に追加するプリンターのオプション。G1と併用することで基板上へのナノ粒子の印字が可能。20nm以下の高純度無機微粒子をサイズ・純度・粒子成分を制御しながら作成可能。ドライタイプ。スパーク放電。新材料(素材)の開発に最適。半導体、化学、医療等。研究開発(R&D)。詳しくはこちらから

¥64,400

無線LANと冗長機能（WAN側）を搭載したハイスピードモデルの業務用（産業用）ルーター。サン電子製。Wifiを使う場合に最適なモデル。付属品（アンテナ、ACアダプター）を含んだセット品。デュアルSIM対応ルーター「DRX5010」1式（オプション部品込み）【セット＝1式の内訳】 DRX5010 Rooster 品名：DRX5010 製品コード：11S-DRX50...

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¥9,800

水漏れ・漏水・水もれを検知する水漏れ検知キットの2年目以降に発生するアプリ、クラウド利用料(年額)。設置するだけですぐに利用可能なスターターセット。パソコン(PC)、タブレット、スマホで複数個所の漏水状況の監視ができ、漏水時にはアラートメールを通知。 - 年間契約 ※途中解約の場合にも、ご返金は致しません。- 数量1は1センサーの1年間のご利用分となります。- 利用開始月のご利用は無料です...

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CVD装置用トップコイルターミナルアッシーの販売。AMAT(Applied Materials) Centura用。P/N:0040-48365の互換品。※写真は代表的なものを載せているため、実物と異なる場合があります。

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CVD装置用トップスピンドルスクリューの販売。AMAT(Applied Materials)/Novellus(ノべラス) Concept-One/1(コンセプトワン)又はTwo/2用。P/N:15-00399-02の互換品。材質：Ni(ニッケル)。 ※写真は代表的なものを載せているため、実物と異なる場合があります。

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トライアングルトップノズルアッシー Triangle TOP Nozzle Assy

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CVD装置用トライアングルトップノズルアッシーの販売。AMAT(Applied Materials) Centura用。P/N:0040-82245の互換品。※写真は代表的なものを載せているため、実物と異なる場合があります。

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ドライアイスブラスト剥離洗浄機「スーパーブラスト」DSC-I Dry ice(CO2) cleaning system

¥5,500,000

ドライアイスで汚れを剥離する洗浄機(装置)。粉砕したドライアイスペレットを対象物(母材)に衝突させる方式。半導体製造装置用部品(パーツ)のデポ(付着物)除去に有効。エッチング工程向け。精密洗浄。CO2洗浄。詳しくはこちらから仕様本体寸法（mm） 500(W)×650(D)×885(H) 本体重量 130kg ガン寸法　重量 36(W)×450(D)×160(H） 96...

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ドライアイスブラスト剥離洗浄機「スーパーブラスト」DSC-V「Reborn」Dry ice(CO2) cleaning system

¥3,000,000

ドライアイスで汚れを剥離する洗浄機(装置)。粉砕したドライアイスペレットを対象物(母材)に衝突させる方式。半導体製造装置用部品(パーツ)のデポ(付着物)除去に有効。エッチング工程向け。精密洗浄。CO2洗浄。詳しくはこちらから仕様本体寸法（mm） 450(W)×450(D)×780(H)　本体重量 40kg～80kg　（軽量化はオプション）ガン寸法　重量 24(W)...

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CVD装置用ナイトライドプレートの販売。AMAT(Applied Materials) Centura用。※写真は代表的なものを載せているため、実物と異なる場合があります。

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CVD装置用ナット(A)の販売。AMAT(Applied Materials)/Novellus(ノべラス) Concept-One/1(コンセプトワン)又はTwo/2用。P/N:15-00385-00の互換品。材質：Ni(ニッケル)。 ※写真は代表的なものを載せているため、実物と異なる場合があります。

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¥120,000,000

デスクトップ式ナノパターン露光(フォトリソグラフィー)装置。タルボ効果を利用し周期構造に対してハーフピッチ150nmの一括露光が可能。電子ビーム描画レベルの解像度で周期性をもったデバイス開発に最適。DUV光源選択時にはハーフピッチ75nmの一括露光も可能。詳しくはこちらからナノパターン露光装置PhableR 100の仕様解像度 150nm ハーフピッチ（リニアグレーティング）＊D...