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イオン注入(インプラ/IMP)装置用べーポライザー(べーパーライザー)用オーブン(るつぼ)の販売。AMAT(Applied Materials) Quantum 3(Ⅲ)用。P/N:9240-03843の互換品。※写真は代表的なものを載せているため、実物と異なる場合があります。
定価 ¥160,000 から
販売価格 ¥160,000 から
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独立した個別の工場データをウェブ上で集約し、蓄積データを標準画面内で一元管理・活用・全体最適化ができるIoTクラウドサービス。5M1Eの視点で製造履歴のトレーサビリティをが可能。品質改善、生産性向上を実現。 ※こちらはご購入前の詳細確認が必要な商品です。まずは下の「見積もり依頼」フォームからのお問い合わせをお願いします。 詳しくはこちらから
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CVD装置用アイソレーターテフロンクランプの販売。AMAT(Applied Materials) Centura DXZ用。P/N:0020-33330の互換品。※写真は代表的なものを載せているため、実物と異なる場合があります。
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定価 ¥1,200,000
販売価格 ¥1,200,000
定価
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製造/生産中止の純正デュアルチャネル(Dual Channel)アナログニューマティックス/ニュートロ二クスI/Oボード(P/N:0050-01091)に互換性のある改造キット。デジタル式。AMAT CMP装置 Mirra用。
定価 ¥300,000
販売価格 ¥300,000
定価
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アナログメーターの値をウェブ画面上でリアルタイムに可視化できるクラウドサービスです。異常時にはアラートメールを発報し、事故の未然防止や生産現場の省力化を実現します。 【システムの構成】 ハードウェアのレンタル(カメラユニット5台+ゲートウェイ1台+カメラ取付用アダプタ8種類) クラウドシステム利用料+LTE通信費(月額)@25,000/月×12ケ月利用=¥300,000/年額。カメラ...
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エッチング(Etching)装置用の石英(クォーツ/Quatz)アプリケーター(コイル付きチューブAssy)の販売。12インチ(300mm)用。LAM Versys kiyo用。P/N: 765-065782-001用など。
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エッチング装置用のアルミ(Al)アルマイト/アノダイズパーツの再生サービス。上部/下部電極、エレクトロ―ド、トップ/ボトムプレート、静電チャック(ESC/Eチャック)、バッフル板、デポシールド等。 詳しくはこちらから
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エッチング装置用のアルミ(Al)アルマイトアノダイズ・アルミナ(Al2O3)/イットリウム/イットア(Y2O3)パーツの洗浄再生サービス。ドライアイス洗浄によりパーツにダメージを与えず洗浄が可能。上部/下部電極、エレクトロ―ド、トップ/ボトムプレート、静電チャック(ESC/Eチャック)、バッフル板、デポシールド等。 詳しくはこちらから
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定価 ¥35,000
販売価格 ¥35,000
定価 ¥28,000
単価
対して 
■品名Description:Al2O3 4N φ10xt5 ■仕様Specification: ・材質Material:Al2O3 ・純度Purity:99.99% ・サイズSize:φ10×t 5 ■納期Delivery:約2ヵ月(応相談)   
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定価 ¥49,000
販売価格 ¥49,000
定価 ¥39,000
単価
対して 
■品名Description:Al2O3 4N φ10xt5 ■仕様Specification: ・材質Material:Al2O3 ・純度Purity:99.99% ・サイズSize:φ10×t 5 ■納期Delivery:約2ヵ月(応相談)   
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定価 ¥37,000
販売価格 ¥37,000
定価 ¥29,300
単価
対して 
■品名Description:Al2O3 4N φ20xt5 ■仕様Specification: ・材質Material:Al2O3 ・純度Purity:99.99% ・サイズSize:φ20×t 5 ■納期Delivery:約2ヵ月(応相談)   
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定価 ¥69,000 から
販売価格 ¥69,000 から
定価 ¥55,000
単価
対して 
高真空のスパッタリング成膜装置で薄膜形成するためのセラミックス系焼結体の高純度アルミナターゲット(Al2O3 sputtering target)薄膜材料。 ■品名Description:Al2O3 4N φ101.6xt5 ■仕様Specification: ・材質Material:Al2O3 ・純度Purity:99.99% ・サイズSize: φ101.6xt5 ・その他Other:ボ...
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定価 ¥107,000 から
販売価格 ¥107,000 から
定価 ¥85,000
単価
対して 
高真空のスパッタリングターゲット成膜装置で薄膜形成するためのセラミックス系焼結体の高純度アルミナターゲット(Al2O3 sputtering target)薄膜材料。 ■品名Description:Al2O3 4N φ152.4xt5 ■ 仕様Specification: ・材質Material:Al2O3 ・純度Purity:99.99% ・サイズSize: φ152.4xt5 ・その他O...
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定価 ¥20,000
販売価格 ¥20,000
定価 ¥15,300
単価
対して 
■品名Description:Al 4N φ20xt5 ■仕様Specification: ・材質Material:Al ・純度Purity:99.99% ・サイズSize:φ20×t 5 ■納期Delivery:約2ヵ月(応相談)   
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定価 ¥22,000
販売価格 ¥22,000
定価 ¥17,000
単価
対して 
■品名Description:Al 5N φ20xt5 ■仕様Specification: ・材質Material:Al ・純度Purity:99.999% ・サイズSize:φ20×t 5 ■納期Delivery:約2ヵ月(応相談)   
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定価 ¥37,000
販売価格 ¥37,000
定価 ¥29,300
単価
対して 
■品名Description:Al 4N φ20xt5 ■仕様Specification: ・材質Material:Al ・純度Purity:99.99% ・サイズSize:φ20×t 5 ■納期Delivery:約2ヵ月(応相談)   
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イオン注入(インプラ/IMP)装置のイオンソース(イオン源)を標準バーナス型からIHC(カソード)型へ改造するアップグレード。イオンソースのロングライフ化が実現可能。追加のカソード電源も準備可能。VIISion、VIISta、GSD、PI9500(PI-9500)XR/XR80等に対応。
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定価 ¥5,250,000
販売価格 ¥5,250,000
定価
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CMP装置用ウェットロボットAssyの販売。標準修理または特殊部品交換による修理サービスも対応可能。P/N:0010-77676、  0010-77400等。
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CMP装置用ウェットロボットの修理。モーター、リードスクリュー、リボンケーブル、PCB、バキュームトランスデューサーの部品交換も可能。修理後のロボットはMirraテスト機でのロボット軸フォーミング及び初期化を実施。P/N:0010-77676。
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定価 ¥1,200,000
販売価格 ¥1,200,000
定価
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対して 
CMP洗浄装置用ブラシタンク用パーツ。ウェハ/ウェーハ/ウェハー・ブラシローラーアッシー。純正P/N:0021-13858/0010-23807などの互換部品。CMP洗浄装置MESA用。修理/オーバーホールも対応可能。
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定価 ¥500,000
販売価格 ¥500,000
定価
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CMP洗浄装置用ブラシタンク用パーツのウェハ/ウェーハ/ウェハー・ブラシローラーアッシーの修理/オーバーホール。純正P/N:0021-13858/0010-23807などの互換部品。CMP洗浄装置MESA用。 詳しくはこちらから
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定価 ¥210,000
販売価格 ¥210,000
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対して 
CMP装置スピンドルシャフト用のウェハ/ウェハーサポートクリーナーHVMのライトサイド(0021-14649)、レフトサイド(0021-14650)、センターサスロット(0021-14651)の1セット。個別販売も可能(MOQ 各2個)。AMAT Reflexion 300mm用。スピンドルシャフトAssyの修理対応も可能。
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CVD装置用カップクランプスクリュー(ブラック)の販売。AMAT(Applied Materials) Centura DXZ用。P/N:0020-33343の互換品。※写真は代表的なものを載せているため、実物と異なる場合があります。
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定価 ¥210,000
販売価格 ¥210,000
定価
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カバー付き電解液タンク。デスクトップ型めっき(メッキ)システム(装置)用オプション部品(パーツ)。基板裏面への周り込み無く成膜できるのが特徴。省スペースでリーズナブルコスト。 詳しくはこちらから 品名 型番 用途 Electrolyte tank with cover Tank 3 Glass + Lid PP for quick release couplings and Pt1...