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X3502-69000

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CVD装置用TXZヒーター(TXZ Heater)。P/N:0010-28715の互換品。AMAT CVD装置Centura TXZチャンバー用。300mm用形状や型番は写真と異なる場合あり(都度要問い合わせ)。

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¥1,080,000

CVD装置用TXZヒーター(TXZ Heater)。P/N:0010-37784の互換品。AMAT CVD装置Centura TXZチャンバー用。形状や型番は写真と異なる場合あり(都度要問い合わせ)。

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K2428A

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Ultima PLUSチャンバーカバー Ultima PLUS Chamber cover

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CVD装置用チャンパーカバーの販売。AMAT(Applied Materials) Centura Ultima用。P/N:0040-40854の互換品。※写真は代表的なものを載せているため、実物と異なる場合があります。

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SFC-450

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ASSY 110480-001

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UPAアップグレード圧力トランスデューサー UPA Up-Grade Pressure Transducer

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CMP装置用UPA圧力(プレッシャー)トランスデューサーのアップグレードモデル。全てのヘッドゾーン圧力(RR, IT. PP, EC, UC)に使用可能。AMAT Mirra用。8インチ/200mm用。【特徴】1. 圧力トランスデューサーと圧力インジケーターを組み合わせて、レギュレーターからの出力圧力を簡単に確認し、Mirraサービス画面の値と比較します。トラブルシューティングが簡単。2....

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UPAカバー(マグネットタイプ) UPA COVER with Magnet Type

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CMP装置用保護カバー。ロータリーユニオン～研磨ヘッド部までを覆う樹脂製のカバーでマグネット脱着式に改良したアップグレードモデル。ネジの取り付け/外しの手間をなくし、ネジの落下問題も改善。AMAT(Applied Materials) Mirra TITAN-1ヘッド用。200mm(8インチ用)。P/N：0040-40785の互換品。 ※写真は代表的なものを載せているため、実物と異なる場合...

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UVナノインプリント装置 TEX-01 UV Nanoimprint system TEX-01

¥6,000,000

UV露光(リソグラフィー)を行うためのナノインプリント装置。樹脂やフィルムのような凹凸、うねりのある基板へのパターン転写に適した装置。マニュアル式。樹脂(ポリマー)を塗布した基板とソフトモールドを密着させる方式。真空・加圧が必要ないシンプルな構成解像度：100nmレベルでの微細構造パターン製作高い生産性（スループットは1~2分）従来のナノインプリント装置に比べ、高い残膜制御性（15...

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$UVナノインプリント装置 TEX-02 UV Nanoimprint system TEX-02$

¥40,000,000

UV露光(リソグラフィー)を行うためのナノインプリント装置。樹脂やフィルムのような凹凸、うねりのある基板へのパターン転写に適した装置。半自動(セミオート式)。樹脂(ポリマー)を塗布した基板とソフトモールドを密着させる方式。真空・加圧が必要ないシンプルな構成解像度：100nmレベルでの微細構造パターン製作高い生産性（スループットは1~2分）従来のナノインプリント装置に比べ、高い残膜制...

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UV光源(ライトソース/Light source)。フォトリソグラフィー/露光/Photolithography用途向けにコリメートされた光源。OAI製。半導体、MEMS、研究開発(R&D)、少量産、中量産向け。多様なビームサイズに対応。詳しくはこちらからモデルタイプビームサイズ波長帯域出力レンジシャッタータイム Model 30 UVライトソース 2" ...

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