PHOTOLITHOGRAPHY

ASK

ASK

フォトマスク、レチクルを主導でピックアップし、ハンドリング・搬送するための専用ツール。用途に応じて3種類のモデルを準備しています。 WHS-L1は、同期グリッパーを備えた密閉型ギアボックスを搭載し、フォトマスクとレチクルを側面の接線方向から精密にハンドリングします。これは、精度と最小限の接触が不可欠なシナリオに最適です。 WHS-L2は水平オフセット用途向けに設計されており、WHS-L1...

ASK

ASK

ASK

POLOSホットプレート 350アドバンスド POLOS HOTPLATE 350 Advanced

¥2,190,000

プリベーク・ポストベークに適したデスクトップサイズのホットプレート。用途に合わせたカスタマイズが可能。精密温度制御、アラートサウンド機能付き。研究開発(R&D)向け。詳しくはこちらから【電圧：230 VAC】温度範囲：50～230°C - 20プログラム（温度/時間）の保存機能付き - 音響アラーム付きカウントダウンタイマー（1～999秒） - 温度均一性 ±1.0°C - ...

ASK

POLOS 450 NPPアドバンスドPPスピンプロセッサー POLOS450 NPP Advanced PP Spin Processor【予約品】

ASK

POLOS 450 アドバンスドシングルサブストレートスピンプロセッサ、デスクトップバージョン、NPP ハウジング、スピンカップ、手動ケミカルディスペンス、ヘビーデューティモーター付き。空気力学的に効率的なチャンバーが均一性を高め、天然ポリプロピレンまたはステンレススチールのプロセスチャンバーが汚染のない、簡単に清掃できるプロセス領域を保証します。すべてのユニットに、プロ...

ASK

POLOS Spin300x アドバンスドスピンコーターテーブルトップ POLOS Spin300x Advanced Spin Coater Tabletop 【予約品】

ASK

1台でレジスト塗布(コート)、エッチング、洗浄、乾燥が可能な多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polosの300mm(12インチ基板用)以下の基板対応機。チャック/アダプター使用で小片/チップの処理も可能。NPP(ポリプロピレン)、PTFE(テフロン)から選択可。 ※※受注生産品になります。納期は別途ご確認お願いします。【使用可能基板サイズ】 l ...

¥1,640,000 から

1台でレジスト塗布(コート)、エッチング、洗浄、乾燥が可能な多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polosの200mm(8インチ基板用)以下の基板対応機。チャック/アダプター使用で小片/チップの処理も可能。NPP(ポリプロピレン)、PTFE(テフロン)から選択可。 ※※受注生産品になります。納期は別途ご確認お願いします。【使用可能基板サイズ】 l 最大...

¥1,080,000 から

1台でレジスト塗布(コート)、エッチング、洗浄、乾燥が可能な多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polosの150mm(6インチ基板用)以下の基板対応機。チャック/アダプター使用で小片/チップの処理も可能。NPP(ポリプロピレン)、PTFE(テフロン)から選択可。 ※※受注生産品になります。納期は別途ご確認お願いします。【使用可能基板サイズ】 l 最大...

¥35,700,000 から

ナノ粒子を生成するデスクトップ型装置VSP-G1に追加するプリンターのオプション。G1と併用することで基板上へのナノ粒子の印字が可能。20nm以下の高純度無機微粒子をサイズ・純度・粒子成分を制御しながら作成可能。ドライタイプ。スパーク放電。新材料(素材)の開発に最適。半導体、化学、医療等。研究開発(R&D)。詳しくはこちらから

Polos HP200 プレシジョンホットプレート POLOS HP200 Precision Hotplate

¥910,000 から

プリベーク・ポストベークに適したデスクトップサイズのホットプレート。用途に合わせたカスタマイズが可能。精密温度制御、アラートサウンド機能付き。研究開発(R&D)向け。詳しくはこちらから POLOS Hotplate 200 Standard• Voltage: 230 VAC Temperature range: 50 - 230°C - Programmable storage...

ASK

ASK

光学露光(フォトリソグラフィー)を可能にするPOLOSマイクロライター。コンフォーカル顕微鏡付き。マイクロレーザー制御ソフトウェアを搭載。主に405nmレーザー用。研究開発(R&D)向け。405nm laser, optical system including 3 lenses, confocal microscope with yellow illumination for fo...

ASK

¥9,830,000

マスクレス露光(フォトリソグラフィー)を可能にするPOLOSマイクロプリンター。マイクロ構造、複製、スティッチングが可能なソフトフェアを搭載。研究開発(R&D)向け。 POLOS µPrinter Maskless photolithography equipmentSFTprintSFTprint with 435nm light source Machine control so...

Model 308/308T UV照度計 Model 308/308T Light Meter

¥320,000 から

ハンディタイプのUV照度計(パワーメーター/Power Meter)。OAI社製で旧型モデル306の後継機種。校正サービスも提供可。専用プローブ(365nm、400nm、420nm、436nm等)も販売。フォトリソグラフィー(露光)装置向け。【Model 308】 Relative Accuracy:275-2000 mw/cm2 range: ±(.042% of reading +.4...

ASK

¥120,000,000

デスクトップ式ナノパターン露光(フォトリソグラフィー)装置。タルボ効果を利用し周期構造に対してハーフピッチ150nmの一括露光が可能。電子ビーム描画レベルの解像度で周期性をもったデバイス開発に最適。DUV光源選択時にはハーフピッチ75nmの一括露光も可能。詳しくはこちらからナノパターン露光装置PhableR 100の仕様解像度 150nm ハーフピッチ（リニアグレーティング）＊D...

ASK

¥2,500,000

タッチスクリーン式、USB内蔵のハンディタイプのUV照度計(パワーメーター/Power Meter)。OAI社製で旧型モデル358の後継機種。校正サービスも提供可。専用プローブ(365nm、400nm、420nm、436nm等)も販売。詳しくはこちらから model 対応波長帯域強度レンジ Model659 365nm – 436nm ～7,500mW/cm2 ...

ASK

ASK

片面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。光学式。全自動/フルオート式。中量産向け。フラッド露光/エッジビード露光が可能。シャドウマスク技術が必要なエッジビード除去工程向け。OAI製。詳しくはこちらからモデル 2000 基板対応サイズ 12インチ径までマスク対応サイズ - アライメントステージコントロール - アライメント精度 - 露光 ...

ASK

ASK

UV光源(ライトソース/Light source)。フォトリソグラフィー/露光/Photolithography用途向けにコリメートされた光源。OAI製。半導体、MEMS、研究開発(R&D)、少量産、中量産向け。多様なビームサイズに対応。詳しくはこちらからモデルタイプビームサイズ波長帯域出力レンジシャッタータイム Model 30 UVライトソース 2" ...

ASK

ASK

UV LED光源(ライトソース/Light source)。フォトリソグラフィー/露光/Photolithography用途向けにコリメートされた光源。OAI製。半導体、MEMS、研究開発(R&D)、少量産、中量産向け。ビームサイズ 4 ～ 12 インチ sg 波長 365um、405um またはデュアル波長デュアル波長チューニングが可能 +/- 4% より優れたビーム均一性...

ASK

ASK

片面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。光学式。全自動/フルオート式。液晶/FPD/LCD/フラットパネルディスプレイ、中量産向け。大型基板(最大20″×20″まで)。オールコンピューター制御。OAI製。詳しくはこちらからモデル 6020 基板対応サイズ 12インチ角 – 20インチ角までマスク対応サイズ 14インチ角 – 24インチ角までアライ...

ASK

ASK

片面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。光学裏面露光式。全自動/フルオート式。半導体、MEMS、研究開発(R&D)向け。中量産向け。オールコンピューター制御、スループットは1時間に180ウェハが可能。OAI製。詳しくはこちらからモデル 6000 基板対応サイズ 50mm～200mmウェハ/角もしくは200mm～300mmウェハ/角 100um～7mm...

ASK

ASK

両面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。光学式。トップ面またはボトム面のアライメントが可能。半自動/セミオート式。研究開発(R&D)向け。少量産向け。OAI製。詳しくはこちらからモデル 800E 基板対応サイズ 8インチ角までマスク対応サイズ 9インチ角までアライメントステージコントロール XY 動作 : ±5mm回転 : ±4° ...

ASK

Model 212 マニュアル式片面テーブルトップ大面積マスクアライナー R&D用

ASK

片面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。ベンチトップ式のためコンパクトで設置が簡単。マニュアル式。研究開発(R&D)向け。リーズナブル。最大12インチまでの中型基板用。OAI製。詳しくはこちらからモデル 212 基板対応サイズ 12インチ角までマスク対応サイズ 14インチ角までアライメントステージコントロール XY 動作 : ±10mm...

ASK

ASK

片面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。デスク/テーブルトップ式のためコンパクトで設置が簡単。マニュアル式。研究開発(R&D)向け。リーズナブル。OAI製。詳しくはこちらからモデル 200 基板対応サイズ 8インチ角までマスク対応サイズ 9インチ角までアライメントステージコントロール XY 動作 : ±10mmZ 動作 : 1500...

ASK

$UVナノインプリント装置 TEX-02 UV Nanoimprint system TEX-02$

¥40,000,000

UV露光(リソグラフィー)を行うためのナノインプリント装置。樹脂やフィルムのような凹凸、うねりのある基板へのパターン転写に適した装置。半自動(セミオート式)。樹脂(ポリマー)を塗布した基板とソフトモールドを密着させる方式。真空・加圧が必要ないシンプルな構成解像度：100nmレベルでの微細構造パターン製作高い生産性（スループットは1~2分）従来のナノインプリント装置に比べ、高い残膜制...