ナノパターン露光装置 PhableR 100

Name: ナノパターン露光装置 PhableR 100
Brand: 協同インターナショナル
Price: 120000000.0 JPY
Availability: OutOfStock

協同インターナショナル

¥120,000,000

販売 ASK

デスクトップ式ナノパターン露光(フォトリソグラフィー)装置。タルボ効果を利用し周期構造に対してハーフピッチ150nmの一括露光が可能。電子ビーム描画レベルの解像度で周期性をもったデバイス開発に最適。DUV光源選択時にはハーフピッチ75nmの一括露光も可能。

解像度	150nm ハーフピッチ（リニアグレーティング）＊DUV光源選択時　75nmハーフピッチ（リニアグレーティング）
基板サイズ	～φ100mm
マスクフォーマット	5"
照度均一性	＜3%
ピッチレンジ	300nm～3µｍ（DUV光源選択時　150nm～）
レジスト厚	1µm程度
オペレーション	手動ローディング – 自動露光
コントロール	タッチパネル

数量は1以上でなければなりません