UVナノインプリント装置 TEX-02 UV Nanoimprint system TEX-02

UV露光(リソグラフィー)を行うためのナノインプリント装置。樹脂やフィルムのような凹凸、うねりのある基板へのパターン転写に適した装置。半自動(セミオート式)。樹脂(ポリマー)を塗布した基板とソフトモールドを密着させる方式。

• 真空・加圧が必要ないシンプルな構成
• 解像度：100nmレベルでの微細構造パターン製作
• 高い生産性（スループットは1~2分）
• 従来のナノインプリント装置に比べ、高い残膜制御性（15nm以下）
• 優れた基板への追随性により、高い面内均一性を実現

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