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UVナノインプリント装置 TEX-02 UV Nanoimprint system TEX-02
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協同インターナショナル
¥40,000,000
¥40,000,000
販売 ASK
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ポリマーを塗布した基板とソフトモールドを密着させて、UV露光を行うためのUVナノインプリント装置

  • 真空・加圧が必要ないシンプルな構成
  • 解像度：100nmレベルでの微細構造パターン製作
  • 高い生産性（スループットは1~2分）
  • 従来のナノインプリント装置に比べ、高い残膜制御性（15nm以下）
  • 優れた基板への追随性により、高い面内均一性を実現

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