窒化硼素_ターゲット_φ101.6×t 5

高真空のスパッタリング成膜装置で薄膜形成するためのの高純度窒化珪素ターゲット（Si3N4 sputtering target)薄膜材料。

■品名Description：Si3N4 2Nup φ101.6×t 5

■仕様Specification:
・材質Material:Si3N4
・純度Purity:99%up
・サイズSize:φ101.6xt5
・その他Other:ボンディング含まず

納期Delivery:約2ヵ月（応相談）