ナノパターン露光装置 PhableR 100

Name: ナノパターン露光装置 PhableR 100
Brand: 協同インターナショナル
Price: 120000000.0 JPY
Availability: OutOfStock

協同インターナショナル

¥120,000,000

Sale Sold out

PhableR100はタルボ効果を用いることにより周期構造に対してハーフピッチ150nmの微細で一括露光できる特殊な装置です。電子ビーム描画レベルの解像度で周期性をもったデバイス開発されているお客様にリーズナブルに導入することが可能となりました。 DUV光源選択時にはハーフピッチ75nmの一括露光を実現します。

詳しくはこちらから

ナノパターン露光装置PhableR 100の仕様

解像度	150nm ハーフピッチ（リニアグレーティング）＊DUV光源選択時　75nmハーフピッチ（リニアグレーティング）
基板サイズ	～φ100mm
マスクフォーマット	5"
照度均一性	＜3%
ピッチレンジ	300nm～3µｍ（DUV光源選択時　150nm～）
レジスト厚	1µm程度
オペレーション	手動ローディング – 自動露光
コントロール	タッチパネル

Quantity must be 1 or more