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ナノパターン露光装置 PhableR 100

Vendor 協同インターナショナル
Regular price ¥120,000,000
Sale price ¥120,000,000 Regular price
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PhableR100はタルボ効果を用いることにより周期構造に対して ハーフピッチ150nmの微細で一括露光できる特殊な装置です。 電子ビーム描画レベルの解像度で周期性をもったデバイス開発されているお客様にリーズナブルに導入することが可能となりました。 DUV光源選択時にはハーフピッチ75nmの一括露光を実現します。

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ナノパターン露光装置PhableR 100の仕様

解像度 150nm ハーフピッチ(リニアグレーティング)
*DUV光源選択時 75nmハーフピッチ(リニアグレーティング)
基板サイズ ~φ100mm
マスクフォーマット 5"
照度均一性 <3%
ピッチレンジ 300nm~3µm(DUV光源選択時 150nm~)
レジスト厚 1µm程度
オペレーション 手動ローディング – 自動露光
コントロール タッチパネル
This is a pre order item. We will ship it when it comes in stock.