φ8インチ薄型基板_熱酸化膜1,000nm(両⾯)付Siウェハ 25枚1式

φ8インチ薄型基板_熱酸化膜1,000nm(両⾯)付Siウェハ 25枚1式

①8インチ×500μmt _熱酸化膜1,000nm(両⾯)付Siウェハ 25枚1式

直径：200.0±0.2mm

厚み：500±25µm

導電型：P型

抵抗値：1-100Ω・cm

面方位：（100）±1°

ノッチ方位：〈110〉±1°

面状態：両面ミラー

パーティクル：≧0.2µm、≦30ea（成膜前基板）

熱酸化膜膜厚：10,000ű10％

枚数：25枚

納期：受注後13-14週間

②8インチ×350μmt__熱酸化膜1,000nm(両⾯)付Siウェハ 25枚1式

直径：200.0±0.2mm

厚み：350±25µm

導電型：P型

抵抗値：1-100Ω・cm

面方位：（100）±1°

ノッチ方位：〈110〉±1

面状態：両面ミラー

パーティクル：≧0.2µm、≦30ea（成膜前基板）

熱酸化膜膜厚：10,000ű10％

枚数：25枚

納期：受注後13-14週間

※写真は製品イメージであり実物とは異なります。