wafer

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¥120,000

φ4インチ熱酸化膜10000Å(両⾯)付Siウェハ 25枚1式 ※在庫品ではありません。納期は受注後10日～14日程かかります。＜仕様＞・4インチウェハ・直径：100±0.2㎜・⾯状態：⽚⾯ミラー/⽚⾯エッチド・厚さ：525±25μm・導電型：P型・抵抗値：1－100Ω・㎝・熱酸化膜膜厚：10000Å±10％【特記事項】・Siウェハのグレード、パーティクル等の保証はいたしかねますので予め...

¥150,000

φ4インチ熱酸化膜20000Å(両⾯)付Siウェハ 25枚1式 ※在庫品ではありません。納期は受注後6～7週間程かかります。＜仕様＞ 4インチウェハ直径：100±0.2㎜面状態：片面ミラー/片面エッチド厚さ：525±25μm導電型：P型抵抗値：1－100Ω・㎝熱酸化膜膜厚：20000Å±10％納期：6－7週間【特記事項】・Siウェハのグレード、パーティクル等の保証はいたしかねますので予め...

¥207,500

φ6インチ×350μmt 熱酸化膜10000Å(両⾯)付Siウェハ 25枚1式 ※在庫品ではありません。納期は受注後8～9週間程かかります。仕様直径：150±0.5㎜面状態：片面ミラー/片面エッチド厚さ：350±25μｍ導電型：Ｐ型抵抗値：1－100Ω・㎝面方位：100熱酸化膜膜膜：10000Å±10％納期：8－9週間【特記事項】・Siウェハのグレード、パーティクル等の保証はいたしかねま...

from ¥1,400,000

φ6インチ熱酸化膜100000Å(両⾯)付Siウェハ 25枚1式 ※在庫品ではありません。納期は受注後8～9週間程かかります。 ※特注の厚膜品のため、膜の密着性等の保証は不問となります。＜仕様＞・直径：150±0.2㎜・面状態：片面ミラー/片面エッチド・厚さ：625±25μm・導電型：P型・抵抗値：1－100Ω・㎝・熱酸化膜厚：100000Å±10％・納期：8週間※写真は製品イメージであり...

from ¥140,000

φ6インチ熱酸化膜10000Å(両⾯)付Siウェハ 25枚1式 ※在庫品ではありません。納期は受注後10日～14日程かかります。＜仕様＞・直径：150±0.2㎜・面状態：片面ミラー/片面エッチド・厚さ：625±25μm・導電型：P型・抵抗値：1－100Ω・㎝・熱酸化膜厚：10000Å±10％・納期：1週間・数量：25枚又は50枚※写真は製品イメージであり実物とは異なります。※各製品の納期は...

from ¥150,000

φ6インチ熱酸化膜20000Å(両⾯)付Siウェハ 25枚1式 ※在庫品ではありません。納期は受注後10日～14日程かかります。＜仕様＞・直径：150±0.2㎜・面状態：片面ミラー/片面エッチド・厚さ：625±25μm・導電型：P型・抵抗値：1－100Ω・㎝・熱酸化膜厚：20000Å±10％・納期：1週間・数量：25枚又は50枚※写真は製品イメージであり実物とは異なります。※各製品の納期は...

from ¥182,500

φ8インチ熱酸化膜20000Å(両⾯)付Siウェハ 25枚1式 ※在庫品ではありません。納期は受注後4～6週間程かかります。・直径：200±0.2㎜・面状態：片面ミラー/片面エッチド・導電型：P型・抵抗値：1－100Ω・㎝・厚さ：725±25μm・面方位：100・熱酸化膜：20000Å±10％※写真は製品イメージであり実物とは異なります。※各製品の納期は都度お問い合わせください。・納期：別...

Sold Out

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Cleaning wafer to remove dirt/dust/particles on vacuum/vacuum/electrostatic/mechanical/pin chuck. Effective in reducing dummy wafer/wafer/wafer/wafer/wafer/wafer loss, reducing equipment downtime, ...

¥79,000

Cleaning wafer to remove dirt/dust/particles on vacuum/vacuum/electrostatic/mechanical/pin chuck. Effective in reducing dummy wafer/wafer/wafer/wafer/wafer/wafer loss, reducing equipment downtime,...

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Chuck Cleaning Wafer for Glass Mask 6025

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Cleaning wafer to remove dirt/dust/particles on vacuum/vacuum/electrostatic/mechanical/pin chuck. Effective in reducing dummy wafer/wafer/wafer/wafer/wafer/wafer loss, reducing equipment downtime,...

¥172,000

ASK

A cleaning sheet for recycling chuck cleaning wafers (CCW). 3 types of lineup for 4, 5, 6, 8, 12 inch CCW (7, 9, 13 inch square). Exclusively for CCW for photolithography/exposure. RNC-DRF-1255(...

from ¥29,000

¥0

A cleaning sheet for recycling chuck cleaning wafers (CCW). 3 types of lineup for 4, 5, 6, 8, 12 inch CCW (7, 9, 13 inch square). Dedicated CCW for ETCH (etching) / sputtering (PVD). RNP-PRF-125...

Resin vacuum table 2 layers 12, 8, 6, 5, 4 inches, dedicated type for each inch

from ¥200,000

Resin vacuum table 2-layer type. Dedicated jig for 4, 5, 6, 8, 12 inch chuck cleaning wafers (CCW). Used to fix CCW when playing CCW. Since it is made of resin, the risk of scratches and particle ...

Resin vacuum table 3 layers 12, 8, 6, 5, 4 inch plate replaceable type

from ¥310,000

Resin vacuum table 3-layer type. Multipurpose jig for 4, 5, 6, 8, 12 inch chuck cleaning wafers (CCW). Used to fix CCW when playing CCW. Since it is made of resin, the risk of scratches and partic...

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窒化アルミニウム（AlN）単結晶の製品を提供します。ご希望の仕様についても対応可能ですので、お気軽にお問い合わせください。

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膜付きウェハ（基板）をご希望の仕様に合わせて作製します。弊社準備のSiウェハ（φ2～φ12インチ等）への成膜、お客様ご支給基板への成膜のいずれのケースにも対応します。下の「膜付きウェハ_見積依頼書」から製作希望の仕様をご入力ください。製作の可否も含め、一両日中に御見積回答します。【特徴】自社保有のスパッタリング装置による成膜加工特殊な基板(小口径、角型、立体、...