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シリコン/Silicon/Si、ガラス、SiC、GaAs、InP、GaN等のウェハ、チップ/小基板を搬送するための真空ピンセット。静電気防止PEEKチップ、高温処理用のポリイミドチップ、超クリーン仕様など複数のラインアップ。 Vacuum wand set small device (WHS-V2) l 簡単にセットできるアッセンブリー品 l 静電気防止構造 l 小型デバイス ...

¥80,000

SPIN150xのリッド（蓋）とボウル/チャンバー部に装着する汚れ防止カバー。1パック20セット入り。ライナーを使用することでリッド（蓋）とボウル/チャンバー部の洗浄工程を省くことができます。・両面に均一な優れた帯電防止特性を持つ非晶質ポリエステル製のコスト効率の高い透明ハードホイル・スピンプロセス終了後、SPIN150xのリッド（蓋）とボウルセットを交換、または簡易洗浄で再利用でき...

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¥1

シリコン/Silicon/Si、ガラス、SiC、GaAs、InP、GaN等のウェハ、チップ/小基板を搬送するための真空ピンセット。バッテリー(電池)駆動でポータブル。静電気防止PEEKチップ、高温処理用のポリイミドチップ、超クリーン仕様など複数のラインアップ。 Cordless portable vacuum wand (WHS-V6) l ウェハ処理用のコードレスバッテリー駆...

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ウェハの向きを揃えるアライナー/アライメントツール。ノッチ、オリフラに対応。ウェハが装置に正常に搬送されているか、エッジに欠陥がないか等を確認することが可能。 Automatic notch aligner (WHS-A3) l 接地されたウェハとカセットの経路を備えた帯電防止構造 l 複数のアライメントプログラム: 標準、薄型/複合ウェハ、エッジ検査 l ±1°ノッチアライメント...

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ウェハの向きを揃えるアライナー/アライメントツール。ノッチ、オリフラに対応。ウェハが装置に正常に搬送されているか、エッジに欠陥がないか等を確認することが可能。 Manual notch aligner (WHS-A4) l 接地されたウェハとカセットの経路を備えた帯電防止構造 l 200mmウェハ用の上部と下部のノッチアライメント l ウェハを優しく取り扱うためのバネ式ノッチキャッ...

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ウェハの向きを揃えるアライナー/アライメントツール。ノッチ、オリフラに対応。ウェハが装置に正常に搬送されているか、エッジに欠陥がないか等を確認することが可能。 Automatic wafer flat aligner (WHS-A1) l 接地されたウェハとカセットのパスを備えた帯電防止構造 l クリーニングとメンテナンスを簡素化するクイックディスコネクトローラー l ±1以内の...

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カセットtoカセットでウェハを移送させるウェハトランスファー。速度、精度、安全性を維持しながらウェハの移送が可能。SEMIスタンダードの搬送/出荷カセットと互換性あり。メンテナンスの手間を減らした設計。多様なニーズを満たすために4つの基本モデルを提供しています。レガシースタイルのスライドトランスファーには、手動のエコノミーバージョンのWHS-T3と、より正確な制御のための高度な自動...

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マニュアルウェハフラットアライナー (WHS-A2) Manual wafer flat aligner

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ウェハの向きを揃えるアライナー/アライメントツール。ノッチ、オリフラに対応。ウェハが装置に正常に搬送されているか、エッジに欠陥がないか等を確認することが可能。 WHS-A2 シリーズは、76 mm (3インチ) から 150 mm (6インチ) までのウェハの上部と下部のバルクアライメント用に設計された手動ウェハフラットアライナーです。InP、GaAs、GaN、SiC などの複合ウェハ...

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セーフガードウェハトランスファー Safeguard wafer transfer

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オートマチックウェハトランスファー Automatic wafer transfer

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POLOS 450 NPPアドバンスドPPスピンプロセッサー POLOS450 NPP Advanced PP Spin Processor【予約品】

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POLOS 450 アドバンスドシングルサブストレートスピンプロセッサ、デスクトップバージョン、NPP ハウジング、スピンカップ、手動ケミカルディスペンス、ヘビーデューティモーター付き。空気力学的に効率的なチャンバーが均一性を高め、天然ポリプロピレンまたはステンレススチールのプロセスチャンバーが汚染のない、簡単に清掃できるプロセス領域を保証します。すべてのユニットに、プロ...

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POLOS Spin300x アドバンスドスピンコーターテーブルトップ POLOS Spin300x Advanced Spin Coater Tabletop 【予約品】

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1台でレジスト塗布(コート)、エッチング、洗浄、乾燥が可能な多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polosの300mm(12インチ基板用)以下の基板対応機。チャック/アダプター使用で小片/チップの処理も可能。NPP(ポリプロピレン)、PTFE(テフロン)から選択可。 ※※受注生産品になります。納期は別途ご確認お願いします。【使用可能基板サイズ】最大...

POLOS Spin200x デスクトップ POLOS Spin200x【予約品】

¥1,540,000 から

1台でレジスト塗布(コート)、エッチング、洗浄、乾燥が可能な多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polosの200mm(8インチ基板用)以下の基板対応機。チャック/アダプター使用で小片/チップの処理も可能。NPP(ポリプロピレン)、PTFE(テフロン)から選択可。 ※※受注生産品になります。納期は別途ご確認お願いします。【使用可能基板サイズ】最大 φ...

テフロン製ポーラスインレーチャックアダプター Porous PTFE inlay chuck adaptor

¥150,000

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos Spin 150x用の基板保持用のポーラスインレーチャック(アダプター)。ウェハ/ウェーハ/ウェハー用。10mm×10mm×100μmt用の真空チャック。6,000rpmも使用可能。詳しくはこちらから

¥1,020,000 から

1台でレジスト塗布(コート)、エッチング、洗浄、乾燥が可能な多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polosの150mm(6インチ基板用)以下の基板対応機。チャック/アダプター使用で小片/チップの処理も可能。NPP(ポリプロピレン)、PTFE(テフロン)から選択可。 ※※受注生産品になります。納期は別途ご確認お願いします。【使用可能基板サイズ】最大 φ...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 12インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 12 inch

¥1,310,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。Φ12インチ/300mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 8インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 8 inch

¥970,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ8インチ/200mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 6インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 6 inch

¥880,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ6インチ/150mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 5インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 5 inch

¥760,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ5インチ/125mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 4インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 4 inch

¥690,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ4インチ/100mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 3インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 3 inch

¥680,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ3インチ/75mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"~12"に...

TRIO-PLUS ウェハホルダー 2インチ用 TRIO-PLUS Wafer Holder for 2 inch

¥640,000 から

薬液(ケミカル)エッチング、電解エッチング、電解めっき(メッキ)用ウェハ/ウェハー/ウェーハ(基板)ホルダー。クランプ式で基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みが無い構造。φ2インチ/50mm(角基板も可)対応。樹脂製。 4か所のクランプによりウェハを挟み込む構造です。基板裏面へのエッチャント/電解液の回り込みはありません。表面の外周3ｍｍは加工エリア外になります。 φ2"...

Polosスピンプロセッサー用センタリングツール Centering Aid for Polos Spin Processor

¥110,000

多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polos Spin150x/200x用のセンタリングツール(治具)。150x用はΦ2～φ6インチ、4インチ□角基板まで、200x用φ2～φ8インチ、6インチ□角基板まで利用が可能。 ※画像は「旧モデルPolos Spin200i用」：参考資料詳しくはこちらから