Sales of PLC assembly balance side coil retrofit Genrack for CVD equipment. For AMAT (Applied Materials) Centura. Compatible with P/N: 0010-06714. *Photos are representative and may differ from the...
Sale of PM reduction kit (upgrade model) for CMP equipment. Consists of Interplaten Clean, Splash Guard (Long, Short), Slurry Arm Base Holder. Designed to prevent slurry residue from remaining. For...
Desktop-sized hot plate suitable for pre-baking and post-baking. Customization is possible according to the application. Precision temperature control with alert sound function. For research and d...
1台でレジスト塗布(コート)、エッチング、洗浄、乾燥が可能な多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polosの150mm(6インチ基板用)以下の基板対応機。チャック/アダプター使用で小片/チップの処理も可能。NPP(ポリプロピレン)、PTFE(テフロン)から選択可。
※※受注生産品になります。納期は別途ご確認お願いします。
【使用可能基板サイズ】
l 最大...
1台でレジスト塗布(コート)、エッチング、洗浄、乾燥が可能な多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polosの200mm(8インチ基板用)以下の基板対応機。チャック/アダプター使用で小片/チップの処理も可能。NPP(ポリプロピレン)、PTFE(テフロン)から選択可。
※※受注生産品になります。納期は別途ご確認お願いします。
【使用可能基板サイズ】
l 最大...
1台でレジスト塗布(コート)、エッチング、洗浄、乾燥が可能な多目的/マルチスピンプロセッサー(スピンコーター/スピンナー/スピナー)Polosの300mm(12インチ基板用)以下の基板対応機。チャック/アダプター使用で小片/チップの処理も可能。NPP(ポリプロピレン)、PTFE(テフロン)から選択可。
※※受注生産品になります。納期は別途ご確認お願いします。
【使用可能基板サイズ】
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POLOS micro printer that enables maskless exposure (photolithography). Equipped with software capable of micro-structuring, duplication and stitching. For research and development (R&D).
POL...
POLOS microwriter that enables optical exposure (photolithography). With confocal microscope. Equipped with microlaser control software. Mainly for 405nm laser. For research and development (R&...
Vacuum pump for multi-purpose/multi-spin processors (spin coaters/spinners/spinners) Polos. Spin150i, Spin200i, Spin300i.
*Photo shows VP-230V
For more information is here
Multi-purpose/multi-spin processor (spin coater/spinner/spinner) Centering tool (jig) for Polos Spin150i/200i/300. For 150i, φ2 to φ6 inch, up to 4 inch square board, for 200i, up to φ2 to φ8 inch...
