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研究/開発用途 4インチPt膜付きSiウェハの販売となります。枚数 1枚~ご希望の数量をお申し付けください。
【成膜仕様】
方式:スパッタリング(PVD)成膜
膜構成:Sub/Ti/Pt
膜厚公差:狙い値より±10%以内狙い
基板:φ4インチSiウェハ
成膜面:ミラー面
成膜環境:弊社クリーンルーム(Class 1000)
標準納期:ご発注後3営業日(在庫品)
(受注生産にて対応可能です。リードタイム約4週間)
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