アルミナターゲット　Al2O3 target φ152.4xt5

高真空のスパッタリングターゲット成膜装置で薄膜形成するためのセラミックス系焼結体の高純度アルミナターゲット（Al2O3 sputtering target)薄膜材料。

■品名Description：Al2O3 4N φ152.4xt5

仕様Specification:
・材質Material:Al2O3
・純度Purity:99.99%
・サイズSize: φ152.4xt5
・その他Other:ボンディング含まず

納期Delivery:約2ヵ月（応相談）