アルミナターゲット Al2O3 Tatget φ101.6xt5

高真空のスパッタリング成膜装置で薄膜形成するためのセラミックス系焼結体の高純度アルミナターゲット（Al2O3 sputtering target)薄膜材料。

■品名Description：Al2O3 4N φ101.6xt5

■仕様Specification:
・材質Material:Al2O3
・純度Purity:99.99%
・サイズSize: φ101.6xt5
・その他Other:ボンディング含まず

納期Delivery:約2ヵ月（応相談）