PHOTOLITHOGRAPHY

Model 308/308T UV照度計 Model 308/308T Light Meter

¥320,000 から

ハンディタイプのUV照度計(パワーメーター/Power Meter)。OAI社製で旧型モデル306の後継機種。校正サービスも提供可。専用プローブ(365nm、400nm、420nm、436nm等)も販売。フォトリソグラフィー(露光)装置向け。【Model 308】 Relative Accuracy:275-2000 mw/cm2 range: ±(.042% of reading +.4...

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¥120,000,000

デスクトップ式ナノパターン露光(フォトリソグラフィー)装置。タルボ効果を利用し周期構造に対してハーフピッチ150nmの一括露光が可能。電子ビーム描画レベルの解像度で周期性をもったデバイス開発に最適。DUV光源選択時にはハーフピッチ75nmの一括露光も可能。詳しくはこちらからナノパターン露光装置PhableR 100の仕様解像度 150nm ハーフピッチ（リニアグレーティング）＊D...

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¥2,500,000

タッチスクリーン式、USB内蔵のハンディタイプのUV照度計(パワーメーター/Power Meter)。OAI社製で旧型モデル358の後継機種。校正サービスも提供可。専用プローブ(365nm、400nm、420nm、436nm等)も販売。詳しくはこちらから model 対応波長帯域強度レンジ Model659 365nm – 436nm ～7,500mW/cm2 ...

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片面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。光学式。全自動/フルオート式。中量産向け。フラッド露光/エッジビード露光が可能。シャドウマスク技術が必要なエッジビード除去工程向け。OAI製。詳しくはこちらからモデル 2000 基板対応サイズ 12インチ径までマスク対応サイズ - アライメントステージコントロール - アライメント精度 - 露光 ...

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UV光源(ライトソース/Light source)。フォトリソグラフィー/露光/Photolithography用途向けにコリメートされた光源。OAI製。半導体、MEMS、研究開発(R&D)、少量産、中量産向け。多様なビームサイズに対応。詳しくはこちらからモデルタイプビームサイズ波長帯域出力レンジシャッタータイム Model 30 UVライトソース 2" ...

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UV LED光源(ライトソース/Light source)。フォトリソグラフィー/露光/Photolithography用途向けにコリメートされた光源。OAI製。半導体、MEMS、研究開発(R&D)、少量産、中量産向け。ビームサイズ 4 ～ 12 インチ sg 波長 365um、405um またはデュアル波長デュアル波長チューニングが可能 +/- 4% より優れたビーム均一性...

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片面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。光学式。全自動/フルオート式。液晶/FPD/LCD/フラットパネルディスプレイ、中量産向け。大型基板(最大20″×20″まで)。オールコンピューター制御。OAI製。詳しくはこちらからモデル 6020 基板対応サイズ 12インチ角 – 20インチ角までマスク対応サイズ 14インチ角 – 24インチ角までアライ...

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片面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。光学裏面露光式。全自動/フルオート式。半導体、MEMS、研究開発(R&D)向け。中量産向け。オールコンピューター制御、スループットは1時間に180ウェハが可能。OAI製。詳しくはこちらからモデル 6000 基板対応サイズ 50mm～200mmウェハ/角もしくは200mm～300mmウェハ/角 100um～7mm...

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両面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。光学式。トップ面またはボトム面のアライメントが可能。半自動/セミオート式。研究開発(R&D)向け。少量産向け。OAI製。詳しくはこちらからモデル 800E 基板対応サイズ 8インチ角までマスク対応サイズ 9インチ角までアライメントステージコントロール XY 動作 : ±5mm回転 : ±4° ...

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Model 212 マニュアル式片面テーブルトップ大面積マスクアライナー R&D用

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片面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。ベンチトップ式のためコンパクトで設置が簡単。マニュアル式。研究開発(R&D)向け。リーズナブル。最大12インチまでの中型基板用。OAI製。詳しくはこちらからモデル 212 基板対応サイズ 12インチ角までマスク対応サイズ 14インチ角までアライメントステージコントロール XY 動作 : ±10mm...

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片面マスクアライナー(密着/近接/コンタクト露光)装置。デスク/テーブルトップ式のためコンパクトで設置が簡単。マニュアル式。研究開発(R&D)向け。リーズナブル。OAI製。詳しくはこちらからモデル 200 基板対応サイズ 8インチ角までマスク対応サイズ 9インチ角までアライメントステージコントロール XY 動作 : ±10mmZ 動作 : 1500...

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$UVナノインプリント装置 TEX-02 UV Nanoimprint system TEX-02$

¥40,000,000

UV露光(リソグラフィー)を行うためのナノインプリント装置。樹脂やフィルムのような凹凸、うねりのある基板へのパターン転写に適した装置。半自動(セミオート式)。樹脂(ポリマー)を塗布した基板とソフトモールドを密着させる方式。真空・加圧が必要ないシンプルな構成解像度：100nmレベルでの微細構造パターン製作高い生産性（スループットは1~2分）従来のナノインプリント装置に比べ、高い残膜制...

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UVナノインプリント装置 TEX-01 UV Nanoimprint system TEX-01

¥6,000,000

UV露光(リソグラフィー)を行うためのナノインプリント装置。樹脂やフィルムのような凹凸、うねりのある基板へのパターン転写に適した装置。マニュアル式。樹脂(ポリマー)を塗布した基板とソフトモールドを密着させる方式。真空・加圧が必要ないシンプルな構成解像度：100nmレベルでの微細構造パターン製作高い生産性（スループットは1~2分）従来のナノインプリント装置に比べ、高い残膜制御性（15...